描述：日本ケニックス 压力梯度式溅射装置，采用独特压力梯度成膜工艺，在真空腔体内部形成稳定气压梯度环境，实现均匀高效薄膜沉积。设备成膜致密均匀、附着力强，可适配多种靶材完成金属、合金、绝缘膜层制备，适用于科研试样镀膜、元器件表面镀膜、材料表面改性、微观观测制样等场景。

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