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美国艾默生TESCOM 高纯气体压力调节器

描述:美国艾默生TESCOM 高纯气体压力调节器。全系半导体专用调压阀按照 SEMI 国际洁净标准生产,依托金属膜片密封结构杜绝介质析出污染高纯气体,从气瓶汇流、气体柜到机台末端点位全覆盖压力管控,长期配套晶圆、面板、半导体芯片产线特气系统,适配硅烷、氯气等各类腐蚀性、自燃性特种工艺气体稳压作业。

  • 产品型号:64/74/10X 系列
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-06-05
  • 访问量:31
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

美国艾默生TESCOM 高纯气体压力调节器

主力细分系列说明

1、10-X 微型系列:超小型机身,适配设备 OEM 集成、MFC 前端点位,低压小流量工况,标配 VCR 接口,内壁 10Ra 抛光,多用于设备内部狭小空间气源调节。2、64-3600 系列:经典单级精密款, tied 膜片结构,低压稳压优异,气柜、点位终端通用,进气最高 3500PSIG。3、74-2400/74-3000 无螺纹系列:阀体内部无加工螺纹,内腔容积极小,减少气体滞留污染,高流量 74-3000 适配吹扫大流量用气。4、44-3400 双级系列:双级减压结构,大幅削弱进气压力波动,多用于气瓶房汇流排高压转中压,腐蚀性高危气瓶首要选择。

工作原理

气源介质进入阀体后,依靠调节手轮压缩弹簧推动金属膜片改变阀芯开合间隙,精准控制出气通径实现压力递减稳压;金属膜片隔绝阀体弹簧腔与介质腔体,无填料渗漏点,气体全程仅接触不锈钢与耐腐密封件,保障高纯介质不受杂质污染,后端压力出现波动时膜片自适应微调开度,稳定输出设定气压。

产品特点

1、金属全膜片密封设计,无橡胶填料,氦检漏率达标半导体高纯工况,不会析出微粒污染晶圆制程气体。2、阀体采用 VAR 真空熔炼不锈钢 + 电解抛光处理,内壁光洁度 5~10Ra,有效降低气体吸附、微粒脱落概率。3、双级稳压型号可大幅缓冲前端气源压力突变,入口大范围波动时出口压力变化极小,保护后端 MFC 精密元件。4、无内螺纹机型内腔空间紧凑,残气量少,设备换瓶、吹扫时气体置换效率更高,节省特种工艺气体损耗。5、膜片、阀座可选哈氏合金、PCTFE、Vespel 多种耐腐材质,兼容酸性、卤素、自燃型特种腐蚀气体。6、标准化 VCR、IGS 半导体专用接口,直接对接行业标准管路,安装便捷,适配阀箱面板固定安装。

美国艾默生TESCOM 高纯气体压力调节器

适用场景

1、半导体芯片:晶圆蚀刻、薄膜沉积、离子注入设备特气供气稳压;
2、特气系统:车间气瓶汇流排、中央供气 BSGS 系统、气体柜 GAS CABINET、VMB 阀箱点位调压;
3、面板光伏:液晶面板、光伏电池片制程特种工艺气体管路稳压;
4、实验室:半导体研发实验室高纯气源、微量配比试验气源控制。

核心参数

进气压力区间:最高 150~3500PSIG(10~241bar)分多档选型
出气调压范围:0.21~10.3bar 多规格量程可选
内壁光洁:5Ra/10Ra 电解抛光
泄漏等级:满足 SEMI F19 高纯气体规范,氦检漏≤1×10⁻⁸ mbar・L/s
适配介质:惰性气体、氢气、硅烷、卤素类腐蚀性特种工艺气体
连接规格:1/4"、1/2" VCR/IGS 半导体标准接口


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