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产品分类 / PRODUCT

描述：日本MIKASA 光刻用小型湿式蚀刻装置
ED-1200 是 MIKASA 专为光刻工艺研发推出的小型桌面湿式喷淋蚀刻设备，主打强耐化学腐蚀、模块化可拓展两大核心优势，适配实验室研发与小批量光刻试样加工场景。整机腔体与药液接触部件采用耐酸碱 PVC 材质，可兼容各类光刻配套蚀刻液、显影液、清洗药液；设备采用摆动喷嘴喷淋结构，药液均匀覆盖基板，刻蚀图形一致性好。

Name: 日本MIKASA 光刻用小型湿式蚀刻装置ED-1200
Brand: 其他品牌
Price: 3500 CNY
Availability: InStock

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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本MIKASA 光刻用小型湿式蚀刻装置

所有与药液接触腔体、管路、喷嘴基座采用 PVC 耐腐蚀材质，可长期浸泡酸性、碱性、含氟类光刻蚀刻药剂，不会出现溶胀、渗漏、析出杂质污染基板；密封件、输送管路均标配耐化学氟橡胶 / 特氟龙配件，长期频繁切换不同蚀刻液、清洗液稳定无腐蚀损耗，大幅降低耗材更换频次。

整机采用标准模块化预留接口，原生支持三路药液拓展，可后期加装药液温控单元、循环过滤模组、密闭废气收集、自动废液排放、双药液切换阀、加长喷淋喷嘴等配件；从小片基础蚀刻，升级至多药液连续工艺、恒温精密刻蚀，无需更换主机机身，适配不同阶段科研、试制需求。

搭载伺服驱动摆动喷淋喷嘴，喷淋范围完整覆盖 6 英寸以内整片基板，药液垂直均匀冲刷基底，消除静态喷淋造成的边缘刻蚀过快、中心刻蚀不足问题；支持蚀刻、纯水漂洗、高速甩干一站式连续自动运行，一套程序完成完整后光刻湿法工艺，减少人工转运基板带来的污染风险。

机身集成专用药液输送泵，无需额外采购、摆放加压药液储罐，洁净台内部占用空间更小；药液输送流量、喷淋时长、基板旋转转速全部触控可调，针对硅片、金属膜、氧化层、玻璃基底可分别存储专属工艺程序，调取即用，工艺可复现性强。

中央真空吸盘固定基板，1~6 英寸晶圆、方形玻璃小片均可稳固吸附；伺服电机驱动无级调速旋转，蚀刻阶段低速均匀喷淋，漂洗后高速离心甩干，基板表面无药液水渍残留，避免光刻图形出现水痕缺陷。配备真空检测联锁，未吸附基板设备自动锁止喷淋，防止药液飞溅。

正面液晶触控面板可视化编辑全套工艺：药液选择、喷淋时长、摆动幅度、漂洗次数、甩干转速、待机等待时间均可自定义，可存储多组光刻工艺配方；设备运行状态、药液余量、故障报警全部屏幕直观提示，实验人员也可标准化操作。

高校科研实验室：硅基 MEMS、光电薄膜、二维材料光刻湿法刻蚀试样；半导体研发：6 英寸以内晶圆小片、氧化层 / 金属薄膜图形转移；光电器件：石英、玻璃掩模版、光学传感器基底蚀刻；PCB 与精密电子：微型线路小片、柔性基底光刻试制；新材料企业：功能薄膜、压电陶瓷基底微纳图形加工。

整机紧凑型桌面尺寸，顶部带透明防腐翻盖，开盖取放基板、关盖自动启动联锁防护；机身底部预留废液统一排放口，可对接洁净室废液管路；整机低噪音运行，无外置大型辅机，适配百级、千级洁净台安装使用。

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