描述：美国Entegris 在线折光式液体浓度监测仪
GV148 是美国 Entegris 应特格专为半导体 CMP 研磨、高纯化学药液输送开发的在线折光浓度监测仪，依靠折射率光学检测原理，无需截断管路、不侵入流体即可实时测算液体浓度，同步采集流体温度做算法补偿，消除温度波动带来的测量偏差。

核心参数

1. 测量原理：LED 光源 + 光电二极管阵列 PDA 检测流体折射率，内置温度补偿算法

2. 折射率量程：1.32~1.40 nD，纯水测量精度 ±3×10⁻⁶ nD（20℃）

3. 流体耐受温度：12~42℃，设备运行环境 0~50℃

4. 电气规格：DC24V 供电，启动电流 1.0A，运行 0.5A；4 路状态 LED 指示灯

5. 信号输出：4~20mA 模拟输出（浓度 / 温度 / 折射率三选一）、2 线 / 4 线 RS485 数字通讯

6. 湿部材质：流通池 PFA、光学窗口单晶蓝宝石、管路接口高纯卡套式

7. 压力耐受：最大 60psi @40℃，适配半导体标准化学管路压力区间

8. 配套软件：InVue GV148 HMI，支持实时曲线、批量数据导出、多点浓度标定

美国Entegris 在线折光式液体浓度监测仪

适用场景

1. 晶圆 CMP 化学机械研磨产线

   实时监测研磨浆料浓度，浆料长时间循环稀释劣化时触发报警联锁停机，匹配日本先进制程晶圆厂 CMP 管控标准，大幅降低晶圆缺陷报废率。

2. 半导体双氧水、清洗药液输送管路

   非导电高纯双氧水在线持续监测，管控药液添加配比，兼容德国微电子清洗化学输送成套系统。

3. 化学品自动混合、稀释配液单元

   前置在线浓度预校验，保障混合后药液浓度稳定，减少人工取样离线检测频次。

4. SubFab 全厂化学循环管路多点监测

   多台 GV148 串联布置，全域监控药液浓度变化，数据汇总至中控 PLC 集中归档。

5. 批次式蚀刻、清洗工艺设备药液槽寿命预警

   实时判断药液有效成分衰减，精准提示药液更换节点，节约高纯化学品耗材。

6. 高校微电子、半导体材料实验室化学循环平台

   小型高纯流体回路浓度长期记录，标准化信号输出适配进口实验自动化采集设备。

7. 第三代半导体、光伏硅片研磨工序配套

   硅片抛光浆料浓度稳定管控，适配美国光伏晶圆制造化学工艺规范。

使用优势

1. 光学非侵入式测量，不污染高纯半导体药液

   无电极接触流体，不存在金属溶出污染晶圆制程，对比电导式浓度计适配双氧水、绝缘研磨浆料等非导电介质。

2. 蓝宝石视窗专用清洁口，维护便捷无需拆机

   机身预留独立清洁通道，直接擦拭窗口结晶、浆料沉淀，整机不用从管路拆除，缩短产线停机维护时间。

3. 一体化集成电路，安装占地极小

   驱动、信号转换、测温模块全部整合单机，可密集排布在狭小化学模组柜内，老旧产线改造无需扩容设备空间。

4. 温度自动补偿，工况波动测量稳定

   同步采集流体温度实时修正折射率计算值，管路冷热交替、车间温度变化不会造成浓度数值漂移。

5. 双路信号输出，兼容全球半导体制控设备

   4-20mA 工业模拟 + RS485 数字通讯，中日德美各类半导体 PLC、数据采集器、上位机系统可直接对接配套。

6. 全氟超高纯湿部，适配强腐蚀研磨、清洗药液

   PFA + 蓝宝石耐受酸性、碱性、研磨浆料混合介质，无吸附残留，保障化学品洁净度符合先进制程要求。

7. 阈值报警 + 设备联锁，规避批量晶圆报废

   可自定义浓度上下限，超标后 LED 报警并输出开关信号联动研磨设备停机，提前阻断不良品产出。

8. 配套专业上位机软件，工艺数据完整溯源

   实时绘制浓度、温度曲线，自动存储批量检测记录，满足半导体工厂品质追溯归档规范。