描述：日本nasgiken 微量金属污染物采样回收装置
SC-3100 是日本 NAS 技研 2023 年升级换代机型，替代旧款 SC-3000，采用全新 PLC 控制系统，属于半导体实验室标准简易型晶圆微量金属污染物采样设备，依靠药液液滴擦拭采集硅片正面、边缘斜面微量金属杂质，后续可搭配 ICP-MS 完成元素定量分析。

基础核心参数

1. 控制架构：整机 PLC 可编程控制系统，替代传统定制电路板

2. 适配晶圆规格：4 英寸、6 英寸、8 英寸标准圆形硅片

3. 采样范围：晶圆正面全域、边缘倒角斜面同步采集

4. 操控方式：USB 联机电脑软件自定义采样路径、速度、药液用量

5. 药液系统：自动定量供给、废液集中回收闭环管路

6. 整机外形尺寸：600×494×600mm 台式一体化柜体

7. 整机净重：35kg，适配万级 / 千级无尘台面摆放

8. 运行环境：温度 10~30℃，湿度 30%~70% RH 无凝露洁净室

9. 供电规格：AC100/220V 宽幅单相，低功耗适配洁净室供电标准

10. 安全配置：红色紧急停止按钮，异常工况一键停机保护样品

11. 适配晶圆表面：标准憎水硅片，支持基础亲水表面采样

12. 配套软件：专用采样轨迹编辑程序，自动存储每批次采样参

核心功能特点

1. PLC 一体化控制架构，电路运行稳定，设备故障率降低，交付周期更可控

2. 电脑联机自定义采样轨迹，可根据检测需求设置圆形、扇形、分段式擦拭路径

3. 正面 + 倒角斜面双区域同步采样，完整收集晶圆全表面附着微量金属杂质

4. 全自动药液供给与回收闭环管路，药液用量可控，减少试剂消耗，规避挥发污染洁净区

5. 机械自动完成载具位移，全程减少人手接触晶圆，降低人工带来的外源金属污染

6. 紧凑型台式机身，无需大型配套工装，洁净室狭小台面可直接摆放安装

7. 操作流程标准化，新手经简单培训即可完成采样，无需长期熟练作业经验

8. 独立废液收集腔体，采样药剂统一回收，符合实验室危废处理规范

9. 急停安全联锁设计，运行中出现卡滞、漏液可快速停机，保护晶圆样品与设备管路

10. 采样参数自动存档，每一批次轨迹、药液量、运行时长完整记录，便于工艺追溯

11. 整机密封无尘柜体，内部管路、运动机构不受洁净室粉尘附着，延长维护周期

12. 适配主流尺寸标准硅片，产线常规 4/6/8 英寸晶圆无需更换大量配件即可切换

13. 管路快拆式结构，定期清洁药剂管路操作简单，避免不同批次样品交叉污染

14. 低噪音平稳传动机构，无尘实验室长时间连续运行无明显震动干扰周边精密仪器

15. 原厂配套标准校准晶圆试样，定期整机标定药液供给量与采样均匀度，满足半导体行业检测溯源要求

适用场景

1. 晶圆制造研发实验室，硅片制程前后表面微量金属杂质标准化取样

2. 第三方半导体理化检测机构，来料硅片污染程度批量检测采样

3. 芯片封装、薄膜沉积工艺实验室，评估设备腔体金属析出污染水平

4. 高校微电子、半导体材料实验室，晶圆表面污染物分析教学试样制备

5. 光伏硅片、功率器件产线，成品硅片出厂前杂质筛查取样

6. 半导体设备维保车间，腔体清洁效果验证采样对比试验

7. 湿化学清洗工艺研发，不同清洗配方去除金属杂质效果对照采样

8. 集成电路可靠性实验室，晶圆存储、运输阶段污染迁移监测