描述：日本tokyo keiso 非接触超声波液位计
本设备为日本 TOKYO KEISO 东京计装 UW3000 一体式超声波液位监测仪，采用非接触超声波测距方式测量储槽内液体液位，无需浸入介质内部，适合纯水、各类化学液体储槽长期监测。机身搭载 DSP 数字信号处理模块，可屏蔽波束范围内障碍物带来的干扰回波。

基础核心参数

1. 工作原理：探头发射超声波接触液面反射回波，通过传播时间换算液面距离与液位高度；设备存储量程参数、运行时序完整数据，导出报表用于储槽流体管控工艺复盘。

2. 最大测量距离：10m

3. 盲区：探头端面起 0.3m

4. 测量精度：±0.25% FS

5. 超声波频率：50kHz

6. 波束角度：单侧 7°

7. 工作模式：液位测量模式、堰式流量测算模式

8. 输出信号：4～20mA、高低液位报警接点、RS485 MODBUS

9. 壳体材质：聚丙烯

10. 使用环境：介质温度 - 20℃～70℃，常压工况，化工车间、半导体洁净厂房、水处理站

日本tokyo keiso 非接触超声波液位计

核心功能特点

1. 非接触式测量，探头不接触液体，降低介质腐蚀、样品污染带来的影响。

2. DSP 数字信号运算，有效过滤支架、管道等障碍物干扰，保障液位读数稳定。

3. 图形液晶可展示回波波形，安装调试阶段快速判断工况，降低调试难度。

4. 双模式运行，既可监测储槽液位，也可搭配堰槽实现明渠流量测算。

5. 丰富信号输出方式，轻松对接 PLC、上位机，实现远程监控与自动联锁。

6. 聚丙烯机身耐多种化学介质，结构紧凑，顶部安装方式占用空间小。

7. 按键本地参数设置，无需外接设备即可完成量程、报警点配置。

8. 整机功耗较低，适合长期不间断连续运行。

9. 支持参数本地保存，设备重启后无需重复设置。

10. 完整流体监测台账留存，原始液位记录可回溯，化工与半导体储槽自动化项目验收可直接调取液位管控记录。

适用场景

1. 半导体制程行业：各类药液储槽、纯水储罐液位在线监控。

2. 化工流体工位：中性化学原料储槽液位持续监测，高低液位预警。

3. 水处理领域：调节池、清水池液位监测，搭配堰槽完成明渠流量计量。

4. 食品制造车间：原料储罐液位管控，满足洁净生产使用需求。

5. 环保工程：污水、中水储槽液位监测，自动化排水联锁控制。

6. 高校流体实训实验室，储槽液位非接触测量教学配套仪表。