描述：日本堀场HORIBA 光纤式药液浓度监测仪
本设备为日本 HORIBA 堀场 CS‑100F1 光纤式药液浓度监测仪，采用光纤分光检测原理，测量主机与取样检测单元相互分离，检测单元直接接入清洗、蚀刻工艺管路，完成化学药液在线实时浓度检测。单台设备最多支持四路药液检测，提供管路流通池与单元池两种检测组件，单元池型号可输出信号用于工艺闭环反馈控制，适配半导体多槽清洗、单晶圆清洗各类湿法制程。

Name: 日本堀场HORIBA 光纤式药液浓度监测仪CS‑100F1
Brand: HORIBA/堀场
Price: 500 CNY
Availability: InStock

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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本堀场HORIBA 光纤式药液浓度监测仪

基础核心参数

光纤分离架构，检测组件直接接入工艺管路，主机电控单元可布置远离化学药液现场，提升设备使用安全性。
单台设备支持最多四路药液检测，一台设备可同时监测多种清洗药液，降低产线设备投入成本。
测量周期约 3 秒，检测响应迅速，匹配单晶圆高速清洗工艺的实时监控需求。
两种检测组件可选，流通池直接串联主管路侧重实时追踪；单元池侧重测量稳定性，可输出信号实现药液闭环自动调控。
适配半导体主流清洗蚀刻药液，覆盖多槽清洗机、单片式清洗设备多种机台场景。
具备浓度超限报警功能，浓度偏离工艺区间自动提示，规避批量工艺不良。
搭载标准化信号输出，可对接工厂 MES、PLC 系统，实现数据上传，便于制程管理。
主机液晶面板直观展示各路实时浓度，现场可直接查看检测结果。
整机适配半导体洁净车间工况，设备维护简单，便于产线长期连续运行。
10. 完整工艺台账留存，记录可回溯，湿法产线在线监测、工艺验证、周期性设备核查项目可直接调取管控记录。

1. 半导体制造行业：晶圆清洗、蚀刻工序化学药液在线浓度监测。2. 湿法设备配套：多槽清洗机、单晶圆清洗机药液浓度管控。3. 工艺研发：湿法清洗配方工艺试验，药液配比效果验证。4. 产线品质管控：药液浓度实时监控，减少批次间工艺波动。5. 工艺工程师，配套半导体药液在线浓度检测装置。

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