描述：日本nasgiken 晶圆微量金属污染物采样仪
该设备为半导体行业使用的简易型采样设备，依靠药液擦拭的方式采集晶圆表面以及边缘斜面位置的微量金属杂质，采集完成之后的样品可以送入分析仪器完成元素判别。设备可以搭配外部计算机完成采样路径的设定，支持多种采集轨迹，适配不同区域的取样需求。采样药液供给、废液回收均为自动化执行，减少人工介入带来的二次污染风险。

核心参数

• 型号：SC‑3100

• 采样方式：药液液滴擦拭采集

• 适配基材：疏水表面硅晶圆

• 控制方式：电脑联机设定采样轨迹、速度、药液用量

• 药液管路：自动供液、废液闭环回收

• 采样区域：晶圆正面、边缘倒角斜面

• 采样模式：环形、扇形、定点、圆弧等多种模式

• 安全配置：急停按钮，异常工况停机保护

• 整机重量：35kg

• 工作环境：洁净室环境，无冷凝，避开粉尘污染

• 标配配件：主机、晶圆承载工装、管路配件、操作说明书

• 选配配件：专用采样耗材、软件配套组件、无尘通风配套

日本nasgiken 晶圆微量金属污染物采样仪

核心功能特点

1. 可同时采集晶圆表面与边缘斜面位置，兼顾平面与倒角部位的污染物收集。

2. 电脑端自定义采样路径，多种采集模式可选，满足不同工艺监控需求。

3. 药液供给与废液回收自动化运行，降低人为操作引入外来杂质的风险。

4. 设备本体占用空间不大，对配套设施要求少，便于洁净实验室导入部署。

5. 机械完成主要取样流程，不需要操作人员具备很高熟练度，上手简单。

6. 闭环管路设计，采样药液集中回收，减少药剂挥发扩散，适配洁净车间。

7. 工装定位稳固，晶圆放置之后运行过程不易发生偏移，保障取样一致性。

8. 专门面向半导体制程监控，取样后的试样可对接各类元素分析设备做后续检测。

适用场景

1. 半导体制造企业，生产晶圆表面微量金属污染定期监控取样。

2. 芯片工艺研发部门，不同制程条件下晶圆污染情况比对采集。

3. 半导体材料实验室，硅片基材表面杂质回收，用于元素分析。

4. 高校科研院所，半导体相关课题试样的污染取样工作。

5. 材料供应商，硅片来料品质核查，开展污染物采集评估。

6. 工艺优化工位，清洗、蚀刻等工序之后晶圆污染水平验证。

7. 洁净工艺研发，各类疏水基材表面微量杂质的取样采集。

8. 需要对晶圆开展表面微量金属污染物采集的各类半导体检测项目。