描述：日本 Otsukael 大塚 分光椭偏仪薄膜分析仪FE-5000/5000S 分光椭偏仪，采用旋转检光子法，非接触无损检测。可测 0.1nm~1μm 薄膜，获取膜厚、折射率 n、消光系数 k。FE-5000S 为紧凑型台式款，FE-5000 为大样品高性能机型，45~90° 自动可变入射角，多通道光谱快速采集。内置光学常数数据库，支持多层薄膜拟合解析。用于半导体、光学膜、光刻胶涂层研发，科研实验

日本 Otsukael 大塚  分光椭偏仪薄膜分析仪日本 Otsukael 大塚  分光椭偏仪薄膜分析仪

产品介绍

产品细节图整机光学主机为黑色精密光学腔体，上方搭载氙灯光源、偏振光学组件，中部样品载台用于放置基板试样。实拍素材包含整机外观、样品载台特写、光学镜头与光斑细节、配套分析软件界面，晶圆 / 玻璃基板样品检测实景。FE-5000S 为小型台式，占地小；FE-5000 为落地式大型机型，支持更大样品与自动载台。光学腔体密闭防尘，减少环境杂散光干扰光学测量光路。

产品性能采用旋转检光子法，搭载可自动拆装相位差板，提升微弱薄膜信号测量精度。光源为高稳定性氙灯，FE-5000 波长 250~800nm，FE-5000S 波长 300~800nm。入射角 45~90° 自动调节，可做多角度联合解析，提升多层薄膜拟合准确度。测量光斑尺寸 FE-5000 约 φ1.2mm，FE-5000S 约 φ2.0mm。可同时解析椭圆参数 tanψ、cosΔ，计算薄膜厚度、折射率、消光系数，膜厚重复性可达 0.01% 以内。多通道 PDA/CCD 光谱检测器，单次光谱采集速度快，内置光学常数素材库，可保存多组测试配方，软件完成多层膜模型拟合。非接触式检测，不会损伤样品表面薄膜。

用材光学腔体采用铝合金精密加工，表面发黑处理，抑制内部杂散光反射。偏振镜片、相位差板采用高品质光学玻璃，镀膜稳定。光源组件为长寿命氙灯；载台采用不锈钢基材，平面度高。内部光电探测器为高精度 PDA 阵列，信号噪声低。传动机构采用精密丝杆，角度定位精准。外壳防尘密封橡胶圈，阻挡粉尘进入光学腔，保护光学元件。

参数表

表格

型号FE-5000S 紧凑型台式基础款，手动载台，适合小尺寸样品研发；FE-5000 高性能落地机型，支持更大样品，可选自动载台、Mapping 面扫描测绘功能。标配光学主机、标准校准基板、配套分析软件；自动载台、Mapping 模块、备用氙灯、光学镜片为选配配件。适合单层、多层纳米薄膜解析，不适合粗糙、强散射样品。

用途无损测定纳米薄膜厚度、折射率、消光系数，解析多层薄膜结构。适用场景：半导体晶圆氧化膜、光刻胶、光学功能膜、硬质涂层、高分子薄膜研发。用于高校材料实验室、半导体企业、光学材料研发中心，评估镀膜工艺，优化薄膜制备参数，分析薄膜光学特性。

包装整机采用出口木箱 + 防震泡沫封装，光学头部单独缓冲防护，光学镜片做好防尘保护。箱内含操作手册、出厂校验报告、标准校准片。自动载台、高级分析模块、备用氙灯不属于基础标配，需另行采购。运输全程防震，避免震动偏移光学光路。

使用说明仪器放置恒温、无振动、避光实验台，接通电源预热光源。使用标准校准片完成系统校准。将样品放置在载台，设定测量角度、波长范围，启动采集。软件采集椭偏光谱，建立光学模型拟合，输出膜厚与光学常数。测试完成，取出样品，盖上防尘盖。环境温度波动、振动会影响精度，禁止触碰内部光学镜片。定期执行光路校准，更换老化氙灯。