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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本ARK半导体微电子光罩对准UV-LED光源日本ARK半导体微电子光罩对准UV-LED光源
LS-1-RAL3 是日本 ARK TECH 专为半导体、微电子制造开发的光罩对准 UV-LED 光源,中心波长 365nm,用于光刻工序掩模对准照明。光源输出光强稳定,LED 预估寿命 20000 小时,无需频繁更换导光光学耗材。支持光强调节,可搭载光纤输出结构,适配光刻设备集成。设备温控稳定,适合洁净车间环境,用于半导体曝光设备掩膜对位、微电子器件光刻对准,降低产线维护成本。
产品细节图整套设备由光源控制主机、UV-LED 发光单元、光纤输出组件、光学准直模块、信号通讯端子组成。主机为紧凑型箱体结构,可放置在设备台面上,也可集成嵌入半导体制造设备内部。前面板设置操作按键与状态显示窗口,可实时查看光源运行状态,支持光输出强度调节。发光头可搭配光纤传导紫外光线,将光源输送至光刻光路内部,用于光罩标记对位成像。光学腔体采用密封设计,隔绝洁净车间粉尘,保护内部 LED 芯片与光学镜片。设备预留外部控制接口,支持上位机信号联动,可与光刻主机同步触发照明。
产品性能采用 365nm 紫外 LED 芯片作为发光核心,专为掩模对准光路设计,光线均匀度高,保障图像识别精度。LED 预估寿命 20000 小时,在光源强度维持初始值 50% 以上的累计点亮时长,相比传统汞灯,减少导光光学部件更换频次,降低产线停机维护。内置温度监控与温控回路,抑制 LED 发光面温度漂移,长时间点亮时光强波动小,保证多次对位成像一致性。支持分级光强调节,可根据掩膜材质、相机感光参数调整输出能量。具备外部信号触发功能,可联动光刻设备实现同步点亮与熄灭。设备内置故障自诊断,异常时报警并切断 UV 输出,保护后端光学组件与产线设备。运行发热量低,不会对周边精密光学器件造成热形变影响。
用材LED 发光芯片选用工业级紫外 LED,发光一致性良好。光学窗口、准直镜片采用紫外高透光学玻璃,镀膜处理,减少紫外光损耗。光源主机壳体采用铝合金,硬质阳极氧化,屏蔽电磁干扰,适配半导体洁净厂房。光纤采用紫外专用石英光纤,低紫外损耗。内部电路板喷涂防潮防尘防护涂层,适配洁净车间温湿度环境。密封垫圈选用耐老化氟橡胶,阻挡粉尘进入光学腔体。散热组件采用铝合金散热鳍片,保障 LED 恒温运行。
参数表
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | LS-1-RAL3 光罩对准 UV-LED 光源 |
| 中心波长 | 365±5nm |
| 光源预估寿命 | 20000h(光强≥初始 50%) |
| 供电电源 | AC100~240V,50/60Hz |
| 使用环境 | 5~40℃,无结露 |
| 控制方式 | 本机面板调节,外部信号触发 |
| 输出方式 | 光纤输出 |
| 应用用途 | 半导体光刻掩模(光罩)对准照明 |
| 安全配置 | 温度监控、故障自诊断、UV 输出保护 |
| 标配 | 光源主机、发光单元、操作手册、出厂检验证书 |
型号LS-1-RAL3 为本款标准对准照明机型;同系列 LS 系列包含多型号 UV-LED 点光源、线光源。定制光纤长度、光学滤镜、上位机控制软件属于选配。本品仅用于光罩对准照明,不可直接作为曝光光源。
用途半导体光刻工序掩膜 / 光罩对准照明;微电子器件光刻对位成像;晶圆、基板精密定位视觉照明;FPD 平板显示光刻对准;半导体设备集成配套光学照明;科研光刻实验掩模定位观测。
包装定制加固出口木箱,光源主机泡沫缓冲包裹,光学镜头、光纤单独防护,避免弯折、划伤光学端面。配件、线缆分格存放。箱内附带原厂检验证书、光学规格手册,远洋运输做防震防潮处理,开箱检查光纤端面、光学窗口无破损。
使用说明将主机放置在洁净车间平稳位置,连接光纤输出头,接入电源。将光纤输出端接入光刻设备的对准光路,接通电源开机。在面板调节 UV 输出强度,或接入外部控制信号,由产线设备联动触发光源。设备运行期间保持环境洁净,避免粉尘附着光学镜片与光纤端面。作业结束关闭光源,等待 LED 冷却后再检修。定期使用无尘擦拭纸清洁光学窗口,禁止硬物触碰光纤端面。定期查看设备报警信息,监控 LED 光衰。不可直视紫外出光口,佩戴紫外防护眼镜操作。
售后服务我司提供到货开箱验收,协助设备就位、光纤装配、光强调试与操作培训。原厂质保期内,非人为损坏故障提供维修;光纤、光学镜片等耗材配件可单独订货。可提供光学方案咨询,协助光路搭建、光强参数选型。
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