描述：日本 Nanotech新材料开发二维晶体积层装置日本 Nanotech Inc MA100tm 二维晶体积层装置，与东京大学合作开发，为新材料研发紧凑型手动堆叠设备。搭载 XYZθ 四轴精密对准台、温控样品台，支持 Pick-up、Drop-off 两种主流堆叠工艺，依靠温度调控胶膜粘附力，完成石墨烯、二硫化钼、hBN 等二维晶体精准转移堆叠，制备异质结样品。配备高倍率对位显微镜，真空吸附样品固定

日本 Nanotech新材料开发二维晶体积层装置日本 Nanotech新材料开发二维晶体积层装置

日本 Nanotech Inc MA100tm 二维晶体积层装置，与东京大学合作开发，为新材料研发紧凑型手动堆叠设备。搭载 XYZθ 四轴精密对准台、温控样品台，支持 Pick-up、Drop-off 两种主流堆叠工艺，依靠温度调控胶膜粘附力，完成石墨烯、二硫化钼、hBN 等二维晶体精准转移堆叠，制备异质结样品。配备高倍率对位显微镜，真空吸附样品固定，铰链式载台换样便捷，可按需定制改造，适合高校、科研院所二维材料实验室试样制备。

产品介绍

产品性能MA100tm 属于科研用手动二维晶体堆叠设备，核心用于二维原子薄层的精准对位与转移积层，制备人工异质结、莫尔超晶格样品。配置 XYZθ 四轴调节机构，可多角度精细对位；球面滑动式样品台能够微调上下接触面平行度，减少转移过程中的褶皱、破损。样品台支持温度步进调节，通过改变温度调控高分子胶层的粘附力，以此实现 Pick-up 拾取转移、Drop-off 释放堆叠两种工艺。上下均设置真空吸附样品架，铰链式上支架开合方便，试样拆装简单；搭配变焦对位显微镜，实验过程实时观察对位状态，保障堆叠精度。同系列还有 MA100ts 版本，该版本无需电脑即可直接显微观察。设备支持定制化改造，可适配手套箱环境，满足对水氧敏感二维材料的制备需求。用材主体机架采用硬质铝合金，刚性稳定，长期微调不易形变。样品承载接触面为低析出平整基材，减少对二维样品的污染；真空吸附管路采用耐温 PTFE 管材，适配样品台升温工况。光学镜筒、物镜为精密光学组件，光路经过防尘处理；调节旋钮为精密微分头，调节顺滑、回差小；密封件选用低挥发橡胶，适合洁净实验室环境。真空控制阀、接头做工精密，吸附稳定，不易发生样品滑脱。型号MA100tm（衍生型号 MA100ts）核心参数表

表格

用途石墨烯、二硫化钼、六方氮化硼等二维材料异质结制备；转角超晶格、莫尔材料试样研发；二维光电、超导、磁传感新材料基础研究；高校、科研院所纳米材料实验室样品制备；新型二维器件前期工艺探索。不适用于大面积量产制程，属于实验室小样研发设备。包装主机、显微镜组件、微分调节组件、真空管路、密封配件分别缓冲防护，出口木箱封装；内含操作说明书、出厂对位性能检测记录，木箱做好减震避光防护，避免光学镜头、精密调节机构磕碰受损。使用说明设备放置在防震光学平台上，减少外界震动影响对位精度；连接真空气源，确认真空吸附稳定；根据工艺需求设定样品台温度，待温度稳定后再开展转移操作；对位过程缓慢调节微分头，观察显微镜画面，避免晶体拉扯破损；实验结束后，清理样品台残留胶渍，关闭真空与加热。光学镜头定期防尘，避免粉尘影响观察效果；该机型为手动科研设备，不适合连续大批量样品制备。