描述：日本 ark-t EW04S 晶圆周边 UV-LED 光源这款高输出紫外 LED 光源，面向晶圆周边曝光工艺使用，出光稳定，光照均匀。光源带有温控结构，抑制发热带来的光强漂移，可以搭配光纤导出光线。支持信号联动，能够对接曝光设备时序，适合半导体光刻配套工序。原厂日本生产，华中地区协助时序对接调试。

日本 ark-t EW04S 晶圆周边 UV-LED 光源日本 ark-t EW04S 晶圆周边 UV-LED 光源

这款高输出紫外 LED 光源，面向晶圆周边曝光工艺使用，出光稳定，光照均匀。光源带有温控结构，抑制发热带来的光强漂移，可以搭配光纤导出光线。支持信号联动，能够对接曝光设备时序，适合半导体光刻配套工序。原厂日本生产，华中地区协助时序对接调试。

产品介绍

产品细节图主机为金属箱体，背部布置供电、通讯与触发端子；出光口可对接光纤组件；内部 LED 阵列搭配散热结构，侧面带有散热风道；可选配光强监测模块，实时反馈输出强度；整机可以放置在设备机柜内部，光纤引光到曝光工位，减少主机对工艺区域的占用。

产品性能紫外输出功率高，适合晶圆边缘曝光处理；内置温控，长时间工作时光强保持稳定；接收外部触发信号，和整机曝光时序同步；可以设置曝光时长，满足工艺重复要求；不同波长版本适配各类光刻胶，降低边缘缺陷。

用材外壳金属屏蔽，降低电磁干扰；LED 芯片配有散热基座；光学窗口低损耗；光纤接头精密加工；内部驱动电路带有稳压保护。

参数表

表格

型号EW04S 为本款机型；订货确认波长、光纤长度、是否需要内置光强监控。不同光刻胶配方需要匹配对应紫外波段。

用途半导体晶圆边缘曝光、光刻工艺边缘处理、光学材料紫外固化、微加工紫外曝光研发。

包装定制防震木箱，光学窗口与光纤单独防护；配套通讯线缆、触发线分开打包；附带光强检测报告、时序手册。

使用说明主机放置在通风位置，保证散热通畅；光纤弯折半径遵守要求，避免折断纤芯；接入触发信号之后同步测试时序；不要直视紫外出光口；定期清洁光学窗口；长时间停机做好端口封堵防尘。