描述：日本分体式在线臭氧水监测仪臭氧分析仪
高耐压检测池设计，耐压达 0.5MPa，可直接接入高压工艺管路，无需减压；低压力损失结构支持大流量测量，不影响主流程压力与流速，适合半导体超纯水大循环、工业臭氧氧化主路在线监测。

日本分体式在线臭氧水监测仪臭氧分析仪

六大核心产品优势

1. 分体式架构，安装灵活适配复杂工况

检测部与控制部分离设计，两者最长可 10m 布线：

检测部直接安装于主管路 / 高压流程，无需旁流取样；

控制部安装于操作面板 / 控制室，便于查看与设置；

 适配空间狭窄、高压管道、强震动的半导体 Fab 厂、污水处理厂等场景。

2. 高耐压低损耗，适配大流量高压工艺

 高耐压检测池设计，耐压达 0.5MPa，可直接接入高压工艺管路，无需减压；低压力损失结构支持大流量测量，不影响主流程压力与流速，适合半导体超纯水大循环、工业臭氧氧化主路在线监测。

3. ΔΣ 高精度演算，半导体级测量稳定性

搭载荏原 ΔΣ 演算芯片，信噪比大幅提升：

测量精度 ±1% FS、重复性 ±0.5% FS；

超低漂移：每月漂移＜±1% FS，1 年免校准；

精准匹配半导体 UPW 中ppb～ppm 级臭氧浓度控制需求，杜绝 TOC 残留与硅片氧化风险。

4. 无试剂免维护，长期运行成本极低

纯物理光学测量，无需任何化学试剂，无消耗品；

关键光学部件采用耐磨石英 + 自清洁涂层，正常工况每年清洁 1 次即可；

检测池支持快速拆卸清洗，无需专业工具，停机维护时间＜30 分钟。

5. 强抗干扰设计，适配半导体复杂水质

不受色度、浊度、pH、电导率及常见离子干扰；

特殊密封材质支持微量 （HF）混合水测量，适配半导体湿法清洗 / 蚀刻后臭氧水监测；

宽温（0～50℃）、抗电磁干扰，稳定运行于洁净室、高湿车间、户外机柜等严苛环境。

6. 丰富信号输出，无缝对接自动化系统

标配隔离型 4～20mA模拟信号，直接接入 PLC/DCS；

可选RS-485 Modbus通讯，支持远程监控与数据记录；

双路浓度报警 + 故障报警继电器输出，联动臭氧发生器自动调节投加量，保障工艺稳定与合规排放。

日本分体式在线臭氧水监测仪臭氧分析仪典型应用场景

半导体行业：超纯水（UPW）系统溶解臭氧监测、硅片清洗臭氧水浓度控制、湿法蚀刻后臭氧水回收监测、TOC 去除工艺浓度闭环控制。

制药行业：无菌注射用水（WFI）臭氧浓度监控、纯蒸汽系统残余臭氧检测、CIP/SIP 清洗水臭氧浓度合规监测（符合 GMP）。

食品饮料：果蔬清洗水臭氧浓度控制、设备 CIP 消毒水在线监测、瓶罐冲洗水杀菌效果监控。

污水处理：臭氧高级氧化（AOP）工艺进 / 出水浓度监测、臭氧投加量优化、难降解有机物去除效率监控。

新能源 / 精密制造：锂电池生产用水消毒监测、光学元件清洗臭氧水浓度控制、精密零件钝化工艺臭氧浓度监控。