描述：美国先进制程压力稳定控制器压力控制
Pivotal Systems PC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于成熟 GFC 技术的上下游压力控制器（Pressure Controller），专为半导体先进制程打造，可实现上下游压力的精准闭环控制，解决工艺腔室压力波动问题，是 CVD、刻蚀、ALD 等对压力稳定性要求场景的核心控制部件。

产品型号：PC
厂商性质：代理商
更新时间：2026-04-28
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

美国先进制程压力稳定控制器压力控制

Pivotal Systems PC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于成熟 GFC 技术的上下游压力控制器（Pressure Controller），专为半导体先进制程打造，可实现上下游压力的精准闭环控制，解决工艺腔室压力波动问题，是 CVD、刻蚀、ALD 等对压力稳定性要求场景的核心控制部件。

美国先进制程压力稳定控制器压力控制

五大核心产品优势

1. 上下游闭环控制，工艺压力稳定性拉满

同时监测并调节上下游压力，形成闭环控制回路，可快速修正因工艺气体流量波动、腔室泄漏等因素导致的压力偏差，维持工艺腔室压力稳定，避免因压力波动影响薄膜沉积均匀性或刻蚀一致性。

2. 继承 GFC 成熟技术，无漂移免校准

采用与 GFC 系列同源的非热式位置控制架构，无传统压力控制器的毛细管、加热丝结构，从根本上消除零点漂移和老化问题，实现终身免校准，大幅降低产线停机维护成本。

3. 无节流孔开放式流道，耐腐蚀防堵塞

流道无细小节流孔或毛细管，避免粉尘、工艺副产物造成的堵塞问题；特殊材质与结构设计，可耐受高腐蚀性气体（如刻蚀工艺中的卤素气体），在严苛工艺环境下使用寿命远超传统压力控制器。

4. 超快响应速度，适配快速工艺切换

响应时间 < 50 ms，可快速响应工艺配方切换、气体流量变化带来的压力扰动，维持腔室压力稳定，适配原子层沉积（ALD）、脉冲沉积等对压力动态响应先进制程。

5. 半导体级工业可靠性，适配严苛生产环境

专为半导体制造环境设计，通过严格的洁净度与抗电磁干扰测试，可在等离子体、高粉尘、强腐蚀的工艺腔室周边稳定工作；全金属密封结构，无泄漏风险，符合半导体行业安全标准。

典型应用场景

半导体制造：CVD/PECVD 沉积、刻蚀、ALD 工艺的腔室上下游压力控制。

先进封装：晶圆级封装（WLP）、键合工艺的工艺腔室压力调节。

实验室科研：真空工艺系统、等离子体研究的腔室压力闭环控制。

工业制程：精密涂层设备、气体分析仪器的上下游压力稳定控制

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