描述：美国非热式位置控制常开式流量比控制器
Pivotal Systems FRC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于位置控制技术的常开式流量比控制器（Flow Ratio Controller），专为半导体先进制程中的多气体配比工艺设计，采用 4 通道集成方案，可实现多股气体的精准流量比例控制，是原子层沉积（ALD）、等离子体工艺等对气体配比要求场景的核心部件。

产品型号：GFC-S+
厂商性质：代理商
更新时间：2026-04-28
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

美国非热式位置控制常开式流量比控制器

Pivotal Systems FRC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于位置控制技术的常开式流量比控制器（Flow Ratio Controller），专为半导体先进制程中的多气体配比工艺设计，采用 4 通道集成方案，可实现多股气体的精准流量比例控制，是原子层沉积（ALD）、等离子体工艺等对气体配比要求场景的核心部件。

美国非热式位置控制常开式流量比控制器

五大核心产品优势

1. 4 通道集成设计，多气体配比一步到位

单台设备集成 4 个独立控制通道，可同时实现多股工艺气体的流量比例控制，替代传统多台 MFC 并联方案，大幅简化设备气路设计，降低系统复杂度与成本。

2. 常开式流量比控制，工艺稳定性大幅提升

以主通道为基准，精准调节其他通道的流量比例，即使主通道流量波动，各通道间的比例仍能保持稳定，避免传统 MFC 并联时因个体漂移导致的配比失衡，提升工艺一致性与良率。

3. 无漂移免校准，消除工艺波动

采用非热式位置控制原理，无传统热式 MFC 的毛细管、加热丝结构，从根本上消除零点漂移和老化问题，实现终身免校准，大幅降低产线停机维护成本，避免流量漂移导致的工艺波动。

4. 无节流孔开放式流道，耐腐蚀防堵塞

流道无细小节流孔或毛细管，避免粉尘、工艺副产物造成的堵塞问题；特殊材质与结构设计，可耐受高腐蚀性气体（如刻蚀工艺中的卤素气体），在严苛工艺环境下使用寿命远超传统 MFC。

5. 半导体级工业可靠性，适配严苛生产环境

专为半导体制造环境设计，通过严格的洁净度与抗电磁干扰测试，可在等离子体、高粉尘、强腐蚀的工艺腔室周边稳定工作；全金属密封结构，无泄漏风险，符合半导体行业安全标准。

典型应用场景

半导体制造：原子层沉积（ALD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、刻蚀工艺中的多气体配比控制。

先进封装：晶圆级封装（WLP）、键合工艺中的多组分保护气 / 工艺气流量调节。

实验室科研：多组分气体配比、等离子体研究、真空工艺系统的多通道流量控制。

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