描述：韩国INNODIS半导体流体控制模块阀
阀体与隔膜均采用高纯 PFA（全氟烷氧基树脂），整体无金属接触，可长期耐受 HF、硝酸、硫酸、TMAH、磷酸 等强腐蚀药液；金属离子析出极低，满足半导体 UPW/Class 1 超净要求。

韩国INNODIS半导体流体控制模块阀核心产品优势

高纯 PFA 一体成型， 耐腐蚀与低溶出

阀体与隔膜均采用高纯 PFA（全氟烷氧基树脂），整体无金属接触，可长期耐受 HF、硝酸、硫酸、TMAH、磷酸 等强腐蚀药液；金属离子析出极低，满足半导体 UPW/Class 1 超净要求。

多通道集成设计，大幅简化管路、减少污染风险

单阀组集成 2–8 通道，替代传统多阀分散布局；焊缝 / 接头减少 70%+，降低泄漏与颗粒污染点；一体成型流路、死区极小 ，避免介质残留与交叉污染。

高洁净零泄漏，长寿命稳定运行

内部镜面抛光、低颗粒释放；PFA 隔膜 + 专用密封结构，开关零泄漏、无残留；气动驱动可高频循环（500 万次 +），抗疲劳、寿命长，降低维护成本。

结构紧凑模块化，节省空间且易安装维护

相比分散阀组节省 50% 安装空间；标准化接口（入珠 / 扩口 / 外螺纹），即插即用； 便于 CIP 在线清洗，减少停机时间。

自动化适配强，支持定制化流路

气动执行机构支持 PLC 远程控制，响应快、可无缝集成半导体自动化产线；流路可定制（混流 / 分流 / 切换），适配不同工艺需求。

韩国INNODIS半导体流体控制模块阀典型应用场景

半导体湿法工艺（核心场景）

晶圆清洗 / 蚀刻机台：HF、SC-1/SC-2、磷酸、TMAH 等药液的多路切换、分配、混合控制。

化学品集中供给系统：高纯酸 / 碱 / 有机溶剂的分支分配、回路切换、取样控制。

CMP 浆料 / 超纯水（UPW）：低吸附、低颗粒输送，保障制程良率。

显示面板（LCD/OLED）制程

玻璃基板ITO 蚀刻、显影、剥膜：TMAH、蚀刻液、清洗液的多通道精准分配与切换。

光伏与新能源湿法制程

硅片制绒 / 清洗：HF/HNO₃ 混合酸、碱清洗液的多路分流、切换、废液切断控制。

高纯化工与制药

精细化工：高纯试剂、催化剂的多通路分配与隔离。

制药：无菌缓冲液、高纯度溶剂的无交叉污染流体控制。

超纯水与废液处理系统

半导体厂 UPW 循环、支路分配、末端输送。

腐蚀性废液 / 废气喷淋管路的自动切断与分流控制。