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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION韩国 INNODIS臭氧专用气动阀
韩国 INNODIS(一诺迪思)PFA 臭氧专用气动阀,专为半导体、显示面板、光伏等高纯臭氧湿法工艺研发。采用高纯 PFA 阀体 + 臭氧级专用隔膜,耐受高浓度臭氧强氧化,长期运行不老化、零泄漏;气动驱动适配 PLC 自动化控制,镜面抛光内壁低颗粒释放,符合 SEMI 超净标准。结构紧凑、安装维护便捷,广泛用于晶圆臭氧清洗、超纯水杀菌、面板 / 光伏制程臭氧控制等关键场景,保障高纯臭氧流体系统的纯净度、稳定性与安全性。
韩国 INNODIS臭氧专用气动阀
一、核心产品优势
高纯 PFA 材质,耐臭氧强氧化 + 超低溶出
阀体与隔膜采用高纯 PFA(全氟烷氧基树脂),具备抗臭氧强氧化性,长期接触高浓度臭氧(O₃)不老化、不脆化、不龟裂;无金属接触设计,金属离子析出<1ppb,符合半导体 SEMI F57/Class 1 超净标准,杜绝臭氧制程金属污染。
臭氧专用密封 + 零泄漏,长寿命抗疲劳
定制臭氧级 PFA 隔膜 + Mega Lock 专属密封结构,耐受臭氧长期侵蚀,开关零泄漏、无残留;气动驱动支持500 万次 + 高频循环,隔膜抗疲劳、耐老化,寿命是普通橡胶阀的10 倍 +,显著降低维护成本。
镜面抛光 ,低颗粒防污染
阀体内壁镜面抛光(Ra≤0.1μm),流路光滑、死区极小、,避免臭氧分解残留物堆积;低颗粒释放设计,满足半导体湿法 / 清洗制程 ** 微颗粒控制(≥0.1μm 颗粒<1 个 / L)** 要求。
宽温耐压,适配臭氧严苛工况
工作温度0–120℃,适配臭氧水 / 臭氧气体冷热交替输送;工作压力0–0.6MPa,稳定匹配半导体臭氧水清洗、臭氧氧化等中低压制程,长期运行。
气动自动化适配,紧凑易安装维护
气动执行机构支持PLC 远程控制,开关响应快(<0.5s),无缝集成半导体自动化产线;一体化紧凑阀体,标准化接口(入珠 / 扩口 / 外螺纹),即插即用,便于CIP 在线清洗,减少停机时间。
二、典型应用场景
半导体晶圆臭氧清洗(核心场景)
晶圆臭氧水(O₃/UPW)清洗机台:10–200ppm 高浓度臭氧水的开关、切断、回路切换控制,去除有机残留、颗粒与金属杂质。
臭氧氧化 / 光刻胶去除:臭氧混合药液的精准分配与流量控制,替代传统强酸制程,降低污染风险。
半导体化学品与超纯水系统
臭氧水集中供给系统:高纯臭氧水的支路分配、末端输送、取样控制,保障清洗制程稳定供应。
UPW 超纯水臭氧杀菌:超纯水回路臭氧杀菌单元的自动开关与隔离,抑制微生物滋生,维持水质高纯。
显示面板(LCD/OLED)制程
玻璃基板臭氧清洗 / 表面活化:高浓度臭氧水的多路切换与精准分配,提升基板附着力与清洗良率。
光伏新能源湿法制程
硅片臭氧制绒 / 清洗:臭氧水的分流、切换、废液切断控制,去除表面杂质,提升电池转换效率。
环保与高纯化工
半导体厂臭氧废气处理:臭氧尾气分解管路的自动切断与安全隔离,防止泄漏污染环境。
高纯化工臭氧氧化反应:高纯臭氧介质的无泄漏输送与过程控制,保障反应纯度与安全。
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