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日本堀场HORIBA 药液浓度在线监测仪

描述：日本堀场HORIBA 药液浓度在线监测仪
本设备为日本 HORIBA 堀场 CS-100 独立式药液浓度在线监测仪，采用吸收光谱分析法，依托多变量解析算法，可同步测定混合清洗药液内多种组分浓度，广泛用于半导体晶圆湿法清洗、蚀刻制程。整机实现全自动不间断在线监测，单次测量周期约 3 秒，满足 300mm 晶圆量产工艺管控。

  • 产品型号：CS-100
  • 厂商性质：代理商
  • 更新时间：2026-07-23
  • 访问量：20
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本堀场HORIBA 药液浓度在线监测仪

基础核心参数

  1. 工作原理：紫外 / 近红外光源穿过流通池，阵列传感器采集吸光度光谱，通过多变量解析计算多组分实时浓度；设备存储配方与监测数据，导出报表用于湿法工艺复盘。

  2. 测量方式：在线流通式连续监测

  3. 测量周期：约 3 秒

  4. 最大可测组分：4 种组分 / 4 组量程切换

  5. 适配药液：SC-1、SC-2、SPM、BHF 等各类半导体标准清洗蚀刻药液

  6. 润湿材质：PFA、石英、蓝宝石

  7. 输出接口：4～20mA 模拟输出、RS232C、并行 I/O 触点报警

  8. 供电规格：DC24V

  9. 外形尺寸：W205 × D329 × H269mm

  10. 使用环境：20～25℃，洁净车间工况，半导体批量清洗、单片式清洗设备配套

日本堀场HORIBA 药液浓度在线监测仪

核心功能特点

  1. 光谱多组分解析，无需将混合液分离，直接在线测量复配清洗药液各成分浓度。

  2. 内置脱气单元，有效去除管路气泡，杜绝气泡造成浓度数值异常波动。

  3. 空气基准校正，不需要配套纯水供给，简化现场管路布局。

  4. 高速 3 秒周期测量，浓度变化快速响应，适配单片式晶圆清洗设备。

  5. 丰富信号输出，支持报警提示与药液自动补给闭环控制。

  6. PFA、石英耐蚀流路，适配高温、强氧化性酸性清洗药液。

  7. DC24V 低压供电，符合半导体洁净车间安全规范。

  8. 紧凑型独立机柜，可就近布置槽边，便于多清洗槽分布式部署。

  9. 预存上百种药液标定曲线，可根据现场药液体系选择对应测量程序。

  10. 完整湿法制程台账留存，浓度监测记录可回溯，晶圆清洗项目验收可直接调取管控记录。

适用场景

  1. 半导体制造行业：8 寸 / 12 寸晶圆 SC-1、SC-2、SPM、BHF 清洗槽在线浓度监控。

  2. 单片式清洗设备：单晶圆清洗机药液实时监测，稳定清洗良率。

  3. 光电面板工位：面板湿法蚀刻、清洗工序药液组分管控。

  4. 湿法制程工艺研发：新清洗药液配比试验、工艺窗口摸索。

  5. 化学品供给系统：药液自动补给系统在线反馈浓度信号。

  6. 半导体工艺实验室，湿法清洗配套在线分析设备。

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