欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172
产品分类 / PRODUCT
相关文章 / ARTICLE
2026-07-09
2026-07-13
2026-08-11
2026-08-04
2026-07-16
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本technorise 精密试样平面研磨抛光机
盘面规格：φ380mm 研磨抛光盘
盘面转速：0‑80rpm 无级调速
加压方式：砝码加载加压，可调整加工压力
可选配置：1‑3 轴强制驱动机构，摆动机构选配
传动形式：皮带传动结构
适配样品：玻璃、金属、陶瓷、半导体小样片
加工工艺：研磨、镜面抛光、CMP 化学机械抛光
整机形态：台式桌面机型，实验室台面放置使用
供电：AC200V 工业供电
标配配件：设备主机、研磨盘、样品夹具、操作说明书
选配配件：强制驱动组件、摆动单元、浆料供给组件、各类研磨垫磨盘
一机兼容多种工艺，从粗研磨、精抛光到 CMP 化学机械抛光，满足多阶段加工需求。
磨盘拆装更换简单，可适配金刚石磨盘、GC 磨盘、各类抛光垫，适配不同材质工件。
砝码式加载，压力调节直观，便于开展不同压力条件下工艺对比试验。
支持选配多轴强制驱动与摆动机构，改善工件研磨均匀性，降低表面纹路缺陷。
台式紧凑机身，适合实验室研发场景，用于工艺摸索、浆料配方验证、小样加工。
可处理玻璃、金属、陶瓷、半导体小样片，覆盖光学、电子、新材料多类试样。
无级调速，盘面转速可灵活设定，适配不同磨料、不同材质的加工条件。
皮带传动运行平稳，维护简单，适合反复开展小批量试样加工试验。
材料研发实验室，玻璃、陶瓷、金属试样研磨抛光，制备显微观测样品。
半导体研发，小样片 CMP 工艺验证，开展抛光浆料、工艺参数摸索试验。
光学材料研发，光学基板、透明材料平面研磨与镜面抛光试制。
高校科研平台，新材料平面加工试验，开展研磨抛光相关工艺研究。
陶瓷、硬质合金零部件小样试制，完成平面减薄与表面精抛光。
工艺开发工位，对比不同磨料、压力、转速对工件表面加工效果的影响。
第三方研发检测，样品前处理，为后续显微、物性检测制备平整试样。
需要对玻璃、金属、陶瓷开展研磨抛光以及 CMP 化学机械抛光的科研试制工况。
拿起手机扫一扫Copyright © 2026津越工业设备(武汉)有限公司 All Rights Reserved 备案号：鄂ICP备2026021557号-1
技术支持：化工仪器网 管理登录 sitemap.xml
我的位置：
产品型号：
留言询价
上一篇：
地址：湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期3栋3层07号F394
邮箱：18771980172@163.com
联系人：李经理
返回顶部