描述：日本Rexxam 半导体超纯水加热设备
RHDIW150A 为 Rexxam（隆祥）超纯水加热设备，面向半导体、液晶面板精密制造湿法清洗工序，采用石墨加热管对超纯水进行加热控温。接液部件使用石英与氟树脂材质，避免金属离子析出污染水体，保障超纯水水质。设备可稳定输出设定温度的大流量超纯水，可搭配过滤器进一步去除微细颗粒，适配晶圆清洗、药液稀释加温等工艺。

核心参数

1. 设备型号：RHDIW150A

2. 适用介质：超纯水

3. 温度设定区间：25‑85℃

4. 温控精度：±1℃以内

5. 标准处理流量：38L/min

6. 压力损失：0.027MPa 以下

7. 加热功率：147kW，石墨加热管

8. 接液材质：石英、氟树脂

9. 整机外形尺寸：W1010×D1260×H2120mm

10. 整机重量：520kg

11. 供电规格：三相 AC220‑480V，电压波动 ±10%，50‑60Hz

12. 工作环境：工业厂房室内，环境温度 5‑40℃

13. 标配配件：加热主机、进出液接头组件、操作说明书

14. 选配配件：高精度过滤器组件、管路套件、备用石墨加热管备件

日本Rexxam 半导体超纯水加热设备

核心功能特点

1. 石墨加热管热源，热效率高，发热体电阻长期稳定，延长加热器使用寿命，对比传统卤素加热更为节能。

2. 接液部位全部采用石英、氟树脂材质，无金属析出，不会污染超纯水，满足半导体高洁净工艺要求。

3. 温控性能稳定，出水温度波动小，保障晶圆清洗工艺条件统一，降低批次工艺差异。

4. 整机压力损失低，接入现有超纯水回路，不会对前端供水系统造成过大负荷。

5. 可加装高精度过滤器，同步过滤流体内部微细颗粒，减少颗粒缺陷，简化产线配套。

6. 整机柜集成式设计，带脚轮，便于产线就位与移位，适配工厂湿法车间布局。

7. 具备安全保护，超温、缺水异常状态可输出信号，可对接产线 PLC 系统。

8. 适配多种工艺，既用于晶圆、面板清洗，也可用于各类药液稀释加温工序，工艺兼容性强。

适用场景

1. 半导体工厂，硅片、晶圆湿法清洗工序中超纯水加温。

2. 液晶面板制造车间，基板清洗工艺超纯水控温供给。

3. 精密电子产线，零部件高洁净水浴清洗供水加热。

4. 湿法工艺工位，各类药液稀释前的超纯水预加温。

5. 新材料研发产线，高纯度流体温控工艺配套。

6. 新建产线设备配套，也可用于原有清洗系统升级改造。

7. 需要稳定供给大流量恒温超纯水的精密制造项目。