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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本nissin 等离子激励微波振荡器
设备型号:MPS‑17A
振荡频率:2450MHz
额定输出功率:1700W,可调区间 200‑1700W
输出稳定度:输入电压波动条件下 ±2% 以内
冷却方式:整机强制空冷,电源部、振荡部均为空冷
输入供电:三相 190‑220V,50/60Hz
输入容量:4.5kVA 以下
配套振荡单元:MG‑10T 磁控管振荡组件
控制方式:本地面板操作,支持外部远程接口控制
保护功能:风扇故障、过温、过流过压、外部联锁、磁控管灯丝断路保护
电源部外形尺寸:430×482×169mm
电源部重量:25kg
振荡单元重量:13kg
使用环境:0‑35℃,无冷凝结露
标配配件:电源主机、振荡单元、连接线缆、操作说明书
选配配件:功率监测组件、匹配器 TBR‑2A2、远程控制套件
分体模块化设计,电源主机与振荡单元分离摆放,设备布局灵活,便于设备集成改造。
全空冷散热方案,不用配置冷却水循环机组,降低现场配套成本,维护工作简单。
低纹波逆变输出,功率连续可调,等离子起辉稳定,工艺重复性表现良好。
多重故障保护逻辑,风扇异常、过热、过流过压、联锁异常均可触发停机保护,保护磁控管等核心部件。
支持本地面板操作与外部远程接口控制,适配自动化产线,可实现设备启停、功率外部调节。
两种功率控制模式可选,输入功率控制,或搭配功率监视器实现入射功率反馈修正控制。
整机轻量化,电源单元、振荡单元重量可控,机柜机架安装、台式摆放均可实现。
工业级整机耐受,可长时间连续运行,适配实验室小试以及工业批量工艺使用。
半导体行业,等离子清洗、等离子刻蚀设备微波激励源。
材料科研,微波等离子体材料改性、材料烧结、气相合成工艺。
高校科研院所,等离子相关实验平台搭建,微波等离子体工艺研究。
表面处理工艺,材料表面活化、改性、除胶处理设备配套。
化学工艺,微波等离子体分解、还原、合成实验装置。
需要 2450MHz 微波激励的各类等离子工艺设备集成配套。
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