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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本orc 紫外线曝光控制照度计
核心参数
配套受光器:UV‑SD35、UV‑SN35,可更换不同波段探头
测量波长:310‑385nm
照度测量范围:0.01‑10.00mW/cm²、0.1‑50.0mW/cm² 两档切换
光量测量范围:0.01‑999.9mJ/cm²
计时测量范围:0.01‑999.9s
测量精度:对标原厂紫外标准源 ±2% 以内,重复性 ±2% 以内
光量预设:支持 10 组光量参数存储设定
信号端口:D‑sub 连接器;远程启停输入,继电器触点输出、报警输出;RS232 通讯接口
机型区分:UV‑M10‑S 台式;UV‑M10‑P 设备嵌入安装型
供电:AC85‑264V 宽电压交流供电
工作环境:0‑40℃,湿度 80% RH 以内,无凝露
日本orc 紫外线曝光控制照度计
功能特点
光量达标输出继电器控制信号,可直接控制快门、UV 光源,实现曝光闭环自动控制。
同时具备照度测量、累积光量积分、计时测量,测量过程可切换显示照度、时间数据。
内置十组参数记忆存储,不同工艺条件可快速调用,适配多品种换产。
两种机身形态,台式适合操作台使用,嵌入机型可直接集成到设备控制柜内部。
受光探头可更换,可匹配不同波长紫外光源,适配光刻、固化多种工况。
支持远程启停信号接入,方便接入产线 PLC 系统实现整套自动化流程。
具备报警输出,异常状态可以对外输出告警信号,便于工艺异常监控。
支持通讯接口输出测量数据,便于记录、追溯生产工艺数据。
数字面板显示,参数输入操作直观,现场调试设置便捷。
工业整机设计,可长期连续运行,适配车间产线不间断生产。
适用场景
PCB 线路板曝光工序,紫外曝光量测控与设备联动控制。
半导体、液晶基板光刻工艺,紫外光量在线监测管控。
各类 UV 固化产线,固化光能量监控,保障固化工艺一致性。
实验室紫外照射设备,做定量曝光的自动控制。
光学、电子行业,紫外工艺设备整机集成配套。
光刻、光化学反应设备,设定目标光量自动停止照射。
产线工艺验证,紫外照度、累积能量检测与记录。
紫外设备定期点检,灯管老化状态光强评估。
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