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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本 TankenSeal PCP 晶圆非接触夹持装置日本 TankenSeal PCP 晶圆非接触夹持装置
日本 TankenSealPCP 多孔碳非接触夹持装置,正负压组合气浮原理,依靠多孔碳均匀供气形成稳定气膜,晶圆全程不接触吸盘表面,无吸附压痕、无微粒污染。悬浮间隙稳定可控,可矫正晶圆翘曲变形,洁净度适配半导体无尘车间。支持 6、8、12 英寸硅晶圆定制,多用于光刻、检测、薄膜工艺工位,解决薄晶圆夹持破损、表面污染难题。
本款 PCP 非接触夹持吸盘是日本 TankenSeal 精工依托自研多孔碳材料开发的半导体晶圆气浮夹持治具,也叫非接触卡盘,专门面向硅晶圆精密制程,区别于传统真空接触吸盘,利用正负压配合的静压气浮方案实现晶圆悬浮固定,在半导体产线检测、曝光、薄膜工序广泛配套使用。产品性能方面,采用正压供气形成支撑气膜、负压提供预紧吸附力的组合控制方式,在吸盘与晶圆之间维持一层均匀稳定的气体薄层,晶圆和夹持本体全程无物理接触,从根源避免接触夹持带来的表面压痕、划伤以及碳粉、碎屑污染。多孔碳本体孔隙分布均匀,出气一致性好,气膜刚性稳定,能够抑制晶圆上下振动,还可以对存在翘曲的薄晶圆做平面矫正,保障光学检测、曝光工艺的平面度要求。悬浮间隙可根据晶圆厚度、工艺需求通过气路调压单元调整,适配不同厚度硅片。气路响应平稳,启停时冲击小,薄晶圆破碎风险低,适配高洁净度 Class1 无尘环境。整套装置可以搭配外部电控气路模组,实现和设备主机信号联动,自动完成浮起、定位、释放时序。用材上,核心工作面为高纯多孔石墨碳材,材质致密、孔隙均匀,出气无局部偏流,碳材料自身低发尘、耐洁净干燥压缩空气持续吹扫;外围基座采用铝合金基材,表面做硬质阳极氧化防析出处理;密封件选用适配洁净工况的氟橡胶,耐等离子环境、不易析出污染物;气路接口采用半导体专用 VCR 洁净接头,减少管路微粒堆积。型号为 PCP(Porous Carbon Products)非接触夹持盘,可按晶圆尺寸定制外形,支持圆形、方形基板方案,同系列还有接触式碳真空吸盘、气浮输送辊等多孔碳制品。核心参数表
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 夹持原理 | 静压气浮,正负压复合控制 |
| 适配基板 | 6/8/12 英寸硅晶圆(可定制) |
| 悬浮方式 | 非接触气膜支撑 |
| 悬浮间隙 | 按工艺定制可调 |
| 工作面材质 | 高纯多孔碳 |
| 洁净适配 | 半导体无尘车间 |
| 控制气源 | 洁净干燥 CDA 压缩空气 |
| 配套方式 | 对接外部调压阀、流量控制器 |
| 安装形式 | 法兰固定,设备内置安装 |
用途主要用于半导体硅晶圆光学检测、光刻曝光、薄膜测量、激光扫描、外观检查工位,也适配超薄玻璃基板、FPD 基板非接触固定,适合对晶圆表面品质管控严格、禁止夹持痕迹的制程,降低不良率。包装采用防静电真空密封袋 + 防震硬质木箱,多孔碳工作面单独防护隔离,避免运输磕碰、粉尘附着,标配夹持盘本体、密封配件、安装说明书,调压、流量控制单元属于选配组件。使用说明:安装前清理气路管路杂质,接入洁净干燥压缩空气;接入设备信号,按工艺参数调节正压、负压压力,设定悬浮间隙;晶圆上料时确认基板无大颗粒异物,防止异物卷入气膜间隙;停机顺序为先泄压,再停止供气;定期吹扫多孔碳表面,避免微粒堵塞微孔;禁止硬物直接磕碰碳工作面;气源必须配置精密过滤器,油、水杂质会造成孔隙堵塞。售后服务:供应商协助气路调试、悬浮参数优化、设备时序对接;碳吸盘工作面属于精密耗材,孔隙堵塞、表面损伤后支持单独询价更换;线上解答气膜不稳、晶圆晃动等工艺问题,现场调试服务另行协商。
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