描述：日本阿苏美技研172准分子真空紫外照射装置该款设备采用平面准分子光源，可完成样品表面光清洗与活化改性。整机自带臭氧分解结构，无需配套大型排风设施，供电简单，便于放置在实验室开展试样研发。可搭配位移扫描平台，处理不同尺寸试样，照射过程对基材损伤偏低，适合各类新材料表面处理工艺摸索。

日本阿苏美技研172准分子真空紫外照射装置日本阿苏美技研172准分子真空紫外照射装置

该款设备采用平面准分子光源，可完成样品表面光清洗与活化改性。整机自带臭氧分解结构，无需配套大型排风设施，供电简单，便于放置在实验室开展试样研发。可搭配位移扫描平台，处理不同尺寸试样，照射过程对基材损伤偏低，适合各类新材料表面处理工艺摸索。

产品介绍产品细节图，设备整体为柜式一体化结构，上部布置照射灯组，下方集成位移扫描平台，台面平整，可平稳放置各类试样。机身侧面设置通风口与控制按键，面板配有状态指示灯，接口布局规整。内置臭氧分解组件收纳于设备内部，外部无多余外挂管路，整机走线收纳整齐，便于安置在实验室工作台。灯组窗口平整，可均匀释放紫外光线，扫描平台运行平稳，移动过程不易产生震动干扰试样。

产品性能，设备依靠射频驱动光源，输出稳定，启停响应迅速。依靠真空紫外激发活性物质，实现有机污染物去除以及表面亲水化处理，不会形成强等离子轰击，降低基材受损伤风险。扫描模式能够扩大有效处理区域，适配不同规格试样。自带臭氧分解单元，处理过程产生的副产物在机内分解，降低现场排风配套压力，设备运行期间照度波动小，多次处理的效果一致性良好，适合反复比对工艺条件。

用材，光源窗口选用高透光特种石英，适配对应波段光线透过；平台台面采用不易形变的金属板材，表面做防锈处理；外壳选用稳固钣金，喷涂耐污涂层；内部驱动电路配有屏蔽结构，降低电磁干扰；密封构件耐老化，减少气体渗漏，内部分解模块填料选用长效耗材，维持持续处理能力。

参数表

表格

型号，主力机型为研发扫描款，面向实验室试样开发；另有量产宽幅机型，可支持大尺寸工件连续处理，能够按照工件尺寸、气氛环境、照射幅宽进行定制。选型时确认试样尺寸以及工艺需求，选择扫描款或是固定面照射款式。

用途，多用于各类材料表面亲水化改性、试样表面有机污染物光清洗、薄膜表面活化，也用于新材料研发阶段工艺摸索，适配高分子材料、光学基材、半导体小样等试样处理。

包装，设备采用实木框架加泡沫缓冲防护，外部缠绕保护膜，配套纸质文件单独收纳，随货附带出厂检测资料与操作手册，运输过程降低震动磕碰带来的损伤。

使用说明，安放设备时保证周边通风顺畅，确认供电稳定后再启动设备，放置试样前将台面清理干净，避免碎屑遮挡光线。调试扫描速度与照射时长，按照工艺需求设定参数，设备运行过程不要打开照射舱门。定期检查臭氧分解耗材状态，按照手册提示开展维护，长期停机前将设备内部清理干净。