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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION美国Pivotal Systems高性能气体流量控制器
Pivotal Systems GFC-S 是美国 Pivotal Systems 推出的基于位置控制原理的高性能气体流量控制器(MFC),专为半导体制造等高精密工业场景设计,是传统热式质量流量控制器(MFC)的革命性替代方案。其流量覆盖 0.025 sccm 至 2000 sccm,凭借无漂移、免校准、耐腐蚀等特性,成为先进制程设备的核心流体控制部件。
美国Pivotal Systems高性能气体流量控制器
五大核心产品优势
1. 革命性无漂移设计, 告别定期校准
采用非热式位置控制原理,无传统热式 MFC 的毛细管、加热丝结构,从根本上消除了零点漂移和老化问题,实现终身免校准,大幅降低半导体产线的停机维护成本与工艺风险。
2. 超快响应 + 高精度,适配先进制程工艺
响应时间 < 50 ms,远超传统热式 MFC,可支持等离子体工艺、原子层沉积(ALD)等对流量切换速度要求 高的先进制程;±1% 的设定值精度,确保晶圆制造过程中气体流量的精准控制,提升良率。
3. 无节流孔开放式流道,耐腐蚀防堵塞
流道无细小节流孔或毛细管, 避免粉尘、工艺副产物造成的堵塞问题;特殊材质与结构设计,可耐受高腐蚀性气体(如刻蚀工艺中的卤素气体),使用寿命远超传统 MFC。
4. 机器学习驱动控制,智能诊断 + 自优化
内置机器学习算法,可实时更新阀门定位参数,自动补偿工况变化影响;同时提供全流程诊断数据,支持设备预测性维护,提前识别潜在故障,保障产线连续稳定运行。
5. 半导体级工业可靠性,适配严苛生产环境
专为半导体制造环境设计,通过严格的洁净度与抗电磁干扰测试,可在等离子体、高粉尘、强腐蚀的工艺腔室周边稳定工作;全金属密封结构,无泄漏风险,符合半导体行业安全标准。
典型应用场景
半导体制造:刻蚀(Etch)、沉积(CVD/ALD)、离子注入等工艺的工艺气体流量控制。
先进封装:晶圆级封装(WLP)、键合工艺的保护气 / 工艺气流量调节。
实验室科研:高精密气体配比、等离子体研究、真空工艺系统流量控制。
工业制程:精密热处理、涂层设备、气体分析仪器的流量控制。
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