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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION美国半导体专用无漂移MFC控制器
Pivotal Systems GFC-X 是美国 Pivotal Systems 推出的大流量款基于位置控制原理的高性能气体流量控制器(MFC),专为半导体制造等高流量、高精密工业场景设计,是 GFC-S 系列的扩展版本,流量最高可达 50,000 sccm,凭借无漂移、免校准、耐腐蚀、无堵塞等特性,成为先进制程中大流量工艺的核心流体控制部件。
美国半导体专用无漂移MFC控制器
五大核心产品优势
1. 大流量覆盖,满足先进制程高吞吐需求
最高支持 50,000 sccm 流量,匹配半导体沉积、刻蚀、扩散等大流量工艺,替代传统多台小流量 MFC 并联方案,简化系统设计,降低设备复杂度与成本。
2. 无漂移免校准,消除工艺波动
采用非热式位置控制原理,无传统热式 MFC 的毛细管、加热丝结构,从根本上消除零点漂移和老化问题,实现终身免校准,大幅降低产线停机维护成本,避免因流量漂移导致的工艺良率波动。
3. 无节流孔开放式流道,耐腐蚀防堵塞
流道无细小节流孔或毛细管,避免粉尘、工艺副产物造成的堵塞问题;特殊材质与结构设计,可耐受高腐蚀性气体(如刻蚀工艺中的卤素气体),在严苛工艺环境下使用寿命远超传统 MFC。
4. 机器学习驱动控制,智能诊断 + 自优化
内置机器学习算法,可实时更新阀门定位参数,自动补偿工况变化影响;同时提供全流程诊断数据,支持设备预测性维护,提前识别潜在故障,保障产线连续稳定运行。
5. 半导体级工业可靠性,适配严苛生产环境
专为半导体制造环境设计,通过严格的洁净度与抗电磁干扰测试,可在等离子体、高粉尘、强腐蚀的工艺腔室周边稳定工作;全金属密封结构,无泄漏风险,符合半导体行业安全标准。
典型应用场景
半导体制造:大流量 CVD/PECVD 沉积、扩散炉、离子注入、刻蚀工艺的工艺气体流量控制。
光伏 / 平板显示:薄膜沉积、镀膜线的大流量工艺气体调节。
工业制程:精密热处理、涂层设备、气体分析仪器的大流量控制。
科研 装备:真空工艺系统、等离子体研究的高流量气体配比。
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