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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION韩国 INNODIS QDR 耐腐蚀气动止回阀
INNODIS QDR 系列是专为高纯腐蚀介质设计的气动驱动 + 单向密封止回阀,结合 PFA 全氟材质与气动辅助复位,在半导体、化工药液管路中实现可靠防回流、防虹吸、防水锤,兼容自动化联锁控制,是高纯流体系统安全防护的关键阀件。
韩国 INNODIS QDR 耐腐蚀气动止回阀
核心产品优势
PFA 通体耐腐,高纯低析出
阀体、阀瓣、密封件均为高纯 PFA,耐受、强酸强碱、臭氧、有机溶剂等强腐蚀介质;材质低溶出、低吸附、无颗粒释放,符合半导体超净制程与高纯度化学品输送要求。
气动辅助单向密封,零泄漏防回流
采用气动复位 + 介质自驱双重密封机制:正向介质压力开启,反向时气动弹簧 + 介质背压双向压紧密封面,零泄漏阻断回流;内置 Mega Lock 密封结构,密封力均匀、抗疲劳,长期运行无滴漏。
自动防回流 + 自动化兼容,安全联锁
无需人工干预,介质流向自动启闭,防止泵反转、介质倒灌与交叉污染;气动执行机构可接入 PLC 系统,实现远程监控、报警联锁,适配半导体 Fab 与化工自动化产线。
高洁净,易清洗免维护
流路直通无滞留、死区极小,内壁光滑不易结垢结晶,适配 CIP 在位清洗;无填料、无外漏,长期免维护,降低高纯系统污染风险与运维成本。
工况适配广,结构紧凑易安装
工作温度 -20~180℃,工作压力 0~0.6MPa,兼容冷热交替与中高压药液管路;紧凑型设计,标准入珠 / 法兰接口,安装空间小、拆装便捷。
典型应用场景
半导体湿法制程(核心)
晶圆蚀刻 / 清洗 / 剥离设备:HF、HCl、NaOH、氨水等腐蚀药液管路防回流、防虹吸。
集中化学品供给系统:支路切断与防倒灌保护,避免不同药液交叉污染。
超纯水(UPW)与臭氧水回路:防水锤、防倒流,保障高纯水质稳定。
化工精细流体输送
精细化工反应釜 / 储罐出口:高纯试剂、催化剂、强氧化介质防回流,保护设备与制程安全。
酸碱废液 / 废气洗涤塔管路:腐蚀废液单向隔离,防止倒灌污染上游系统。
光电 / 光伏行业
显示面板 / 光伏电池片湿制程:腐蚀液、清洗液、剥离液管路防倒流,保障制程一致性与良率。
高纯水与制药辅助系统
制药注射用水(WFI)、纯蒸汽回路:无菌防回流,符合 GMP 与 FDA 认证要求。
实验室高纯试剂管路:取样 / 旁路防倒流,防止污染试剂源。
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