欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司

18771980172

产品展示/ PRODUCTS PLAY

我的位置:首页  >  产品展示  >  电子仪表  >  抛光机  >  日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机

日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机

描述:日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机
本设备为日本 MARUTO 丸井ML-182SL低圆周速度精密研磨抛光机,专为软金属、解理易碎单晶、半导体晶圆等易划伤、易崩边试样开发,区别于常规高速研磨设备,采用 0~100rpm 超低速无级调速,大幅降低研磨应力,杜绝试样变形、崩角、划痕缺陷。

  • 产品型号:ML-182SL
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-07-17
  • 访问量:66
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机

基础核心参数

  1. 工作原理:独立控制箱输出可调转速驱动研磨盘低速平稳旋转,配合抛光液、抛光垫对试样表面轻柔研磨;低转速弱化切削应力,避免软金属形变、单晶解理碎裂,搭配夹具固定各类异形试样,计时管控研磨流程,完整记录转速、时长工艺数据,产出无划痕平整镜面试样。

  2. 完整型号区分

    • ML-182SL:标准低速款,0~100rpm 通用软质 / 脆性材料抛光

    • ML-182:基础中速通用研磨机,适用于常规硬质金属金相制样

  3. 驱动电机:单相 100V 120W 驱动电机

  4. 研磨盘转速:0~100rpm(50Hz 工况)无级连续可调

  5. 研磨盘尺寸:Φ200mm 平面研磨盘面

  6. 适配试样尺寸:Φ1mm~Φ100mm 片状、块状试样

  7. 机身尺寸重量

    • 研磨主机:340×420×305mm,自重 27kg

    • 调速控制箱:200×230×210mm,自重 4kg

  8. 结构设计:主机 + 电控箱分体分离,电控独立调速、计时设定

  9. 供水配套:可外接循环冷却供水系统,持续供给抛光润滑液

  10. 使用环境:恒温无尘理化实验室,无强腐蚀酸碱挥发工况

日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机

核心功能特点

  1. 0~100rpm 超低速区间,研磨应力极低,纯铝、焊料、铜等软金属不会产生挤压变形、划痕

  2. 适配 GaAs、磷化镓等脆性单晶材料,有效抑制解理崩边,完整保留原始晶体界面结构

  3. Φ200 大研磨盘面,可同时放置多块试样,批量制样效率更高,大小尺寸试样通用

  4. 分体独立电控箱,转速数字可视化调节,搭配定时功能,标准化统一研磨工艺

  5. 盘面加工精度高、低径向跳动,整机运行震动微弱,镜面平整度优异,满足 SEM、EPMA 高分辨分析要求

  6. 拓展配件丰富,多角度研磨夹具、真空吸附治具、光纤端面专用工装均可选配

  7. 适配多类型耗材,金刚石磨盘、丝绒抛光布、氧化铝抛光垫自由更换,粗磨、精抛一站式完成

  8. 分体式机身占地灵活,可搭配循环供水系统实现长时间无人值守连续研磨作业

适用场景

  1. 半导体电子行业:硅片、砷化镓、磷化镓单晶衬底无损伤镜面抛光

  2. 金属材料实验室:纯铝、纯铜、低温焊料等软合金金相试样制备

  3. 光学光纤领域:光纤端面、光学玻璃薄片高精度平整研磨

  4. 矿物地质研究:岩石、矿石薄片低应力制样,保留原始矿物解理形貌

留言询价/ MESSAGE INQUIRY

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
拿起手机扫一扫
地址:湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期3栋3层07号F394
邮箱:18771980172@163.com
联系人:李经理

Copyright © 2026津越工业设备(武汉)有限公司 All Rights Reserved    备案号:鄂ICP备2026021557号-1

技术支持:化工仪器网    管理登录    sitemap.xml