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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本堀场horiba 半导体制程 pH 在线分析仪
型号：UP‑100
测量原理：玻璃电极法
pH 测量范围：0‑14pH
pH 分辨率：0.01pH
重复精度：0.10pH
测量稳定性：0.10pH/h
单次采样消耗量：500μL，最大样品消耗 30mL/h
测量间隔：1‑11 分钟可设置，最短 1 分钟更新数据
样品温度：18‑60℃
校准方式：1 点 / 2 点自动校准可选，内置标准试剂储存腔体
输出信号：4‑20mA 模拟输出，RS‑485 通讯接口
控制器安装：96×96mm 盘面安装
控制器尺寸：96 (W)×96 (H)×135 (D) mm
传感器单元尺寸：200 (W)×269 (H)×118 (D) mm
传感器单元重量：2.6kg（不含试剂）
控制器与传感器线缆标准长度 5m
供电：AC100‑240V 宽电压
标配配件：pH 传感器单元、盘面控制器、连接线缆、标配试剂组件、操作说明书
选配配件：加长通讯线缆、溯源校准证书、备用电极、配套试剂耗材
超微量采样设计，单次测量仅消耗 500μL 样品，大幅减少样品废液产生，适合贵重物料制程监测。
自动校准、KCl 参比液自动补给，可实现长达半年周期少维护连续运行，减少人工介入频次。
分体式结构，传感器单元安置于工艺管路侧，控制器盘面安装在控制柜，便于现场查看与参数设置。
测量周期灵活可调，可根据工艺需求更改采样间隔，兼顾高频监测与试剂耗材消耗平衡。
同时输出 pH、温度、电极电位，模拟量与数字通讯双重输出，方便对接 PLC、上位机系统。
采样后样品直接排废，被测样品不会回流至工艺管路，杜绝主物料被污染风险。
适配半导体清洗蚀刻、制药生化等洁净工艺，流路适配高纯工艺液体监测。
整机工艺级设计，适配工业现场连续在线监测，不局限于实验室离线检测。
半导体行业，清洗、蚀刻、电镀等湿法工艺液体 pH 在线连续监测。
制药生产工艺，药液、反应釜物料 pH 过程监控。
生化发酵、生物反应器，发酵体系 pH 长时间在线检测。
精细化工制程，小流量、高价值工艺流体 pH 监测。
食品加工流程，工艺环节 pH 连续采集监控。
研发中试产线，微量物料体系 pH 在线跟踪。
工艺设备改造，新增在线 pH 监测点位，减少取样化验工作量。
需要低样品损耗、自动校准，开展液体 pH 连续在线监测的工业制程工况。
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