描述：Photolithography-RD 实验室小型光刻设备为高校、科研院所专用小型光刻成套设备，包含旋涂机、掩模对准曝光机、显影刻蚀配套装置。整机桌面式轻量化设计，无需大型无尘产线适配，可快速完成光刻胶匀胶、精密曝光、显影刻蚀全流程工艺。适配小尺寸样品至6英寸晶圆加工，支持硅、玻璃、化合物半导体基材微纳图形制备。操作简易、精度稳定，性价比高，是微纳器件、MEMS、半导体材料研发的核心实验设备

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厂商性质：代理商
更新时间：2026-09-15
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

Photolithography-RD 实验室小型光刻设备Photolithography-RD 实验室小型光刻设备

一、产品细节图：整套设备为台式紧凑型结构，占地面积小、安装便捷。旋涂机配备高精度真空吸附载台，转速均匀稳定，腔体密闭防尘；掩模对准曝光机搭载高清双目对准显微镜，10×/20×倍率可调，光路精准无偏差，掩模台定位精密，支持手动微调对位。配套显影、刻蚀单元模块化设计，拆装维护便捷，各单元独立控制、互不干扰。整机线路规整，操作面板简洁直观，适配实验室小型化、精细化实验场景。

二、产品性能：设备专为科研实验轻量化研发，集成光刻全流程功能，可独立完成匀胶、曝光、显影、刻蚀整套微纳加工工艺。旋涂机转速精准可控，可实现光刻胶均匀涂布，膜厚一致性高；掩模对准曝光机对位精度优异，适配小尺寸微纳图形制备，支持接触式精准曝光，图形边缘规整、无畸变。设备适配5mm小样品至6英寸晶圆多规格基材，兼容硅、玻璃、GaN、石英、薄膜等各类实验基材。整机运行稳定、故障率低，无大型设备繁琐调试流程，开机即可使用，适配高校教学、毕业设计、新材料工艺研发等场景，可快速输出合格实验样品。

三、产品用材：设备主体采用防静电烤漆钢板，坚固耐用、防尘抗腐蚀；载台采用航空铝合金，轻量化、高平整度、不变形；光学镜头采用高透光学玻璃，成像清晰、倍率精准、抗老化；真空吸附组件采用耐磨硅胶材质，密封性强、夹持稳定；核心电控元件采用进口精密配件，响应速度快、控制精度高，保障设备长期稳定运行。

四、参数表

项目	参数详情
设备组成	旋涂机、掩模对准机、显影刻蚀单元
适配基材尺寸	5mm小样-6英寸晶圆
对准显微镜倍率	10×、20×双档可调
加工工艺	匀胶、曝光、显影、刻蚀一体化
设备类型	桌面式科研专用设备

五、产品型号：MA-10B掩模对准机、MS-B系列旋涂机、配套显影刻蚀一体机

六、产品用途：主要用于高校半导体、微电子、材料专业教学实验，科研院所微纳器件、MEMS器件、二维材料、化合物半导体的工艺研发与试样制备。可完成光刻胶涂布、微纳图形曝光、基材刻蚀、图案化制备等实验操作，适配毕业设计、课题研发、新材料工艺验证，是半导体基础科研、微纳加工的核心配套设备。

七、产品包装：设备分单元独立木箱包装，主机、光学组件、电控配件、管路耗材单独分装，高密度泡沫防震防护。光学镜头、精密载台单独密封防尘防潮，杜绝运输磕碰、粉尘污染。配套操作手册、工艺教程、设备图纸、保修卡，外包装标注精密仪器、防潮防震、禁止倒置标识。

八、使用说明：设备需放置于无尘、恒温、无振动实验室台面，水平固定安装。接通电源、气源后，开机预热15分钟，校准光路与载台水平度。根据实验需求调试旋涂转速、曝光时间、对位精度，放置基材完成匀胶、曝光作业。严格按照工艺规范操作，避免化学试剂腐蚀设备腔体。实验结束后关闭设备电源，清理腔体残留试剂与粉尘，保持设备洁净干燥。定期校准光学精度、维护真空系统。

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