描述：日本Evident显微镜半导体晶圆掩膜FPD检查该款模块化电动工业显微镜，适配最大 300mm 晶圆、掩膜版、FPD 平板、电子元器件缺陷检查，搭载 UIS2 无限远光学系统，支持多种观测模式，搭配 PRECiV 软件自动成像、测量、归档，多用于半导体无尘车间工艺检验与失效分析。

日本Evident显微镜半导体晶圆掩膜FPD检查日本Evident显微镜半导体晶圆掩膜FPD检查

该款模块化电动工业显微镜，适配最大 300mm 晶圆、掩膜版、FPD 平板、电子元器件缺陷检查，搭载 UIS2 无限远光学系统，支持多种观测模式，搭配 PRECiV 软件自动成像、测量、归档，多用于半导体无尘车间工艺检验与失效分析。

产品介绍我司供应日本 Evident MX63L 自动检测显微镜，前身是奥林巴斯工业显微产品线，专为大尺寸半导体样品检验开发，电动 XY 载台、电动调焦、光路切换可程控，支持对接自动化检测流程，适配洁净室使用环境。产品性能方面，采用 UIS2 无限远校正光学系统，标配高显色稳定白光 LED 反射光源，亮度调节时色温保持稳定，成像色彩一致性好。支持明场、暗场、微分干涉 DIC、偏振光、荧光、红外、MIX 多向暗场观测模式，可根据缺陷类型切换光路，捕捉常规模式不易识别的细微瑕疵。搭载长工作距离 MXPLFLN 系列物镜，高数值孔径，物镜不容易触碰样品表面，降低晶圆、掩膜划伤风险。激光自动对焦模块可稳定快速锁定焦平面，电动载台定位重复精度良好，可按坐标点位自动巡回检测，自动拍照、标注缺陷位置，数据兼容行业标准 KLARF 晶圆图谱文件，方便缺陷追溯。配套 PRECiV 图像分析软件，可完成长度、面积测量、图像拼接、报表导出。整机设计符合 SEMI S2/S8 相关洁净室规范。用材上，主机镜体采用高刚性合金铸件，长期使用光学基准不易偏移；载台台面做防静电、低析出处理，适配无尘车间；光学镜片多层镀膜，降低杂散光反射；各电控模组密封防护，减少粉尘侵入，便于洁净环境维护。模块化结构，物镜、光源、相机、分光组件可按需选配增减，灵活匹配不同检测项目。

核心参数表

表格

用途上，用于硅晶圆表面图形、颗粒、划伤、异物缺陷检查，光刻掩膜版缺陷复检，显示面板 FPD 基板、彩膜、偏光片检验，半导体封装、PCB 线路、微型电子元器件的失效分析、来料质控、工艺验证。包装采用定制防震熏蒸木箱，主机、物镜组、相机、控制器、软件、说明书、校准片分开缓冲防护，适合长途运输。使用说明：设备放置于防震洁净工作台，做好接地；无尘环境使用，定期清洁载台与物镜前端；开机执行原点回归，测试前完成白平衡校准；编辑巡检程序后自动执行点位检测；测试结束及时防尘加盖，定期校验载台精度与对焦模块。售后服务：到货协助安装、光路调试、软件培训；原厂标准质保，物镜、光源、相机为选配耗材配件，可单独采购；支持洁净室上门校准、故障维修对接服务。