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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本Technomate KPM-5030 晶圆清洗高压泵组日本Technomate KPM-5030 晶圆清洗高压泵组
日本 Technomate 高压泵组,专为晶圆清洗、抛光工艺设计,输出压力稳定,脉动低,输送高纯清洗液,适配半导体湿法清洗、抛光设备,保障喷淋压力平稳。
产品细节图包含泵主体、驱动电机、稳压管路、过滤器、压力传感器、控制箱。产品性能输出压力可控,流量脉动小,减少喷淋压力波动,和晶圆清洗、抛光工艺适配,接触液体部件低析出,满足高纯流体要求。用材过流部件耐腐蚀低析出材质,密封件适配高纯化学品,机架稳固,减震结构降低振动。型号 KPM-5030,用途半导体晶圆清洗、CMP 抛光供液、高纯药液喷淋输送。配套参数表包含流量范围、输出压力、过流材质、供电、控制信号、接口规格。整机木箱包装,管路接口做防尘封堵。使用时接入高纯供液管路,排气后启动,设置目标压力,定期更换前置滤芯,检查密封渗漏。售后提供管路调试、压力校准、易损件供应。
表格
| 参数项目 | 参数参考值 |
|---|---|
| 型号 | KPM-5030 |
| 介质 | 高纯清洗液 |
| 压力范围 | 0~3MPa |
| 控制方式 | 闭环稳压 |
| 材质 | 低析出耐腐蚀材质 |
| 供电 | AC200V |
日本 Technomate 高压泵组,专为晶圆清洗、抛光工艺设计,输出压力稳定,脉动低,输送高纯清洗液,适配半导体湿法清洗、抛光设备,保障喷淋压力平稳。
产品细节图包含泵主体、驱动电机、稳压管路、过滤器、压力传感器、控制箱。产品性能输出压力可控,流量脉动小,减少喷淋压力波动,和晶圆清洗、抛光工艺适配,接触液体部件低析出,满足高纯流体要求。用材过流部件耐腐蚀低析出材质,密封件适配高纯化学品,机架稳固,减震结构降低振动。型号 KPM-5030,用途半导体晶圆清洗、CMP 抛光供液、高纯药液喷淋输送。配套参数表包含流量范围、输出压力、过流材质、供电、控制信号、接口规格。整机木箱包装,管路接口做防尘封堵。使用时接入高纯供液管路,排气后启动,设置目标压力,定期更换前置滤芯,检查密封渗漏。售后提供管路调试、压力校准、易损件供应。
表格
| 参数项目 | 参数参考值 |
|---|---|
| 型号 | KPM-5030 |
| 介质 | 高纯清洗液 |
| 压力范围 | 0~3MPa |
| 控制方式 | 闭环稳压 |
| 材质 | 低析出耐腐蚀材质 |
| 供电 | AC200V |
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