描述：smics ARCscan 晶圆光学均匀性检测设备这款高精度光学检测设备可采集晶圆表面光学图案信号，分析整片晶圆的图案均匀性，适合半导体晶圆生产环节的工艺状态监控，可及时识别晶圆表面的光学差异，辅助工艺参数调整。

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更新时间：2026-10-31
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

smics ARCscan 晶圆光学均匀性检测设备smics ARCscan 晶圆光学均匀性检测设备

这款高精度光学检测设备可采集晶圆表面光学图案信号，分析整片晶圆的图案均匀性，适合半导体晶圆生产环节的工艺状态监控，可及时识别晶圆表面的光学差异，辅助工艺参数调整。

产品细节图可观测精密晶圆载台、光学扫描探头、直线运动导轨、控制主机与数据处理显示界面，设备内置遮光腔体，适配精密光学测量的环境要求。产品性能依托高精度光学扫描机构，逐点采集晶圆表面反射信号，通过内置软件计算整片晶圆的光学分布均匀性，识别局部异常点位，测量过程自动化完成，可减少人工目视检测带来的主观误差。用材选用低膨胀材料制作光学载台，运动导轨定位精度高，光路封闭隔绝环境杂光干扰，机身加装减震结构，可降低地面微振动对测量结果的影响。型号为 ARCscan，用途覆盖半导体晶圆光学图案均匀性分析、镀膜工艺均匀性监控、晶圆表面缺陷筛查、光刻工艺状态验证等半导体生产场景。配套参数表包含测量范围、扫描精度、重复定位精度、可检测项目、通讯接口、设备尺寸等信息。产品包装为定制防震木箱，内部采用缓冲材料固定所有光学部件，运输过程中严格控制振动幅度。使用时在洁净环境中将晶圆放置于载台，设置扫描参数，设备自动完成全片扫描并输出分析报告，日常保持设备腔体洁净，避免颗粒物污染光学镜头。售后提供安装调试、操作培训、年度校准服务，支持光路部件检修与软件升级。

参数项目	参数参考值
适配晶圆尺寸	6/8 英寸
扫描步长	≤1mm
重复定位精度	±5μm
检测项目	反射率均匀性 / 图案缺陷
通讯接口	千兆以太网
测量环境	Class100 洁净间

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描述：smics ARCscan 晶圆光学均匀性检测设备这款高精度光学检测设备可采集晶圆表面光学图案信号，分析整片晶圆的图案均匀性，适合半导体晶圆生产环节的工艺状态监控，可及时识别晶圆表面的光学差异，辅助工艺参数调整。

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