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  • KPL-C13-W日本KANKEN干蚀工艺专用废气处理装置
    KPL-C13-W日本KANKEN干蚀工艺专用废气处理装置 日本KANKEN干蚀工艺专用废气处理装置 KPL-C13-W 是一款专为半导体干蚀工艺开发的高粉尘废气无害化处理装置,是 KPL-C13 系列的金属蚀刻增强版。它采用前后双净化器结构,可安全处理 HBr、BCl₃等高水解性、高粉尘负载的工艺废气,是 200mm/300mm 晶圆厂金属蚀刻工序的核心环保设备。
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    2026-04-27
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  • KPL-C13日本KANKEN半导体废气处理设备
    KPL-C13日本KANKEN半导体废气处理设备 日本KANKEN半导体废气处理设备 KPL-C13 是一款多工艺兼容型半导体废气处理装置,专为 200mm/300mm 晶圆产线设计,可同时处理含 CF₄的 PFCs、卤素气体、可燃气体(SiH₄、TEOS)及副产氟基气体,实现多种复杂工艺废气的一站式无害化处理,是半导体蚀刻、沉积等多工序集中处理的高效环保设备。
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  • KPL-WTR日本KANKEN半导体废气处理设备
    KPL-WTR日本KANKEN半导体废气处理设备 日本KANKEN半导体废气处理设备 KPL-WTR 是一款大流量、高能效、紧凑型半导体工艺废气处理装置,专为 300mm 先进晶圆产线设计,是 KPL 系列中处理能力强的型号。它采用新型高温喷枪技术,可高效分解含 CF₄在内的高浓度全氟化碳(PFCs),同时兼顾节能与空间利用,是应对半导体蚀刻 / 沉积工艺中强效温室气体排放的核心环保设备。
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  • KT1000MOC日本KANKEN工艺废气处理设备热氧化分解装置
    KT1000MOC日本KANKEN工艺废气处理设备热氧化分解装置 日本KANKEN工艺废气处理设备热氧化分解装置、KT1000MOC 是日本 KANKEN Techno 专为MO-CVD 工艺开发的大流量废气无害化处理装置,采用 “反应热自维持氧化” 技术,无需燃料气、无需持续电加热,可安全、高效处理 MO 源、NH₃、H₂、SiH₄等复杂工艺废气,是 LED、功率器件、第三代半导体制造的核心环保设备。
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  • KT1000EPS日本康肯处理设备高浓度氢气处理废气
    KT1000EPS日本康肯处理设备高浓度氢气处理废气 日本康肯处理设备高浓度氢气处理废气 KT1000EPS 是日本 KANKEN Techno 专为半导体外延工艺(如 SiC)开发的高浓度氢气处理废气处理装置,采用独特的 “自维持燃烧 + 前后洗涤” 工艺,可安全、高效地处理外延工艺中产生的高浓度氢气及含氯、含硫等复杂废气,是功率器件与第三代半导体制造的关键环保设备。
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