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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本KANKEN工艺废气处理设备热氧化分解装置
KT1000MOC 是日本 KANKEN Techno 专为MO-CVD 工艺开发的大流量废气无害化处理装置,采用 “反应热自维持氧化" 技术,无需燃料气、无需持续电加热,可安全、高效处理 MO 源、NH₃、H₂、SiH₄等复杂工艺废气,是 LED、功率器件、第三代半导体制造的核心环保设备。
日本KANKEN工艺废气处理设备热氧化分解装置
五大核心产品优势
1. 反应热自维持技术,H₂处理时零耗电
利用大流量 NH₃、H₂反应释放的热量实现自维持燃烧,处理高浓度氢气时加热器功率几乎为零,无需持续电加热,大幅降低运行能耗,是 MO-CVD 工艺的节能方案。
2. 无燃料气、无排水设计,绿色环保
全程不使用化石燃料,不产生额外 CO₂排放;同时采用无排水工艺,避免废水处理成本与二次污染,符合半导体工厂低碳环保与洁净厂房管理要求。
3. 全系列安全防护,杜绝工艺风险
搭载*的故障保护机制:入口温度传感器实时监测气体温度,异常时自动启动紧急泄压装置;逆火防止安全阀可快速切断气流,杜绝回火风险,保障 MO-CVD 工艺稳定运行。
4. 适配大流量 MO-CVD 工艺,处理效率行业
专为 MO-CVD 工艺的大流量、高浓度复杂废气设计,可高效氧化分解 MO 源、NH₃、H₂、SiH₄等多种成分,处理效率高,满足严苛环保法规与工艺安全要求。
5. 成熟应用验证,适配 LED 与功率器件产线
在全球半导体工厂的 LED、功率器件、第三代半导体制造工艺中拥有大量成功应用案例,设备稳定性与工艺兼容性经过市场长期验证,是大规模 MO-CVD 产线的标配设备。
典型应用场景
LED 行业:蓝绿光 LED、Mini/Micro LED 外延工艺 MO-CVD 废气处理。
功率器件行业:IGBT、MOSFET 等功率器件外延工艺废气处理。
第三代半导体行业:SiC、GaN 外延工艺 MO-CVD 废气无害化处理。
先进半导体工厂:MO-CVD 工艺集中废气处理系统部署,适配高密度洁净厂房。
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