描述：日本OTSUKAEL 一体化分光干涉膜厚量测仪
本款 FE-300 一体化膜厚量测仪由日本 OTSUKAEL 大塚电子原厂制造，整机集成光源、分光检测光路、样品载台与信号处理单元，采用光学干涉法完成非接触式无损薄膜检测。设备搭载多套可选波长光路模块，标准光斑 Φ3mm，覆盖 3nm~35μm 薄膜至厚膜测量区间，内置四种专业解析算法，可同步完成绝对反射率采集、最多 10 层薄膜厚度

基础核心参数

1. 测量原理：分光光学干涉法，非接触无损检测

2. 标准光斑尺寸：Φ3mm，可定制微小光斑镜头

3. 膜厚测量区间：3nm～35μm，分紫外、可见光、近红外多波段机型可选

4. 波长覆盖：300~800nm / 450~780nm / 900~1600nm 多规格光路选配

5. 解析能力：支持 10 层多层薄膜同步拟合分析

6. 运算算法：峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法

7. 测量项目：绝对反射光谱、膜厚、折射率 n、消光系数 k

8. 样品兼容：最大支持 8 英寸晶圆，板材厚度≤5mm

9. 整机形态：一体式桌面紧凑型台式机身，内置样品旋转载台

10. 通讯方式：USB 电脑联机，配套专用光谱分析软件

11. 运行环境：0℃~45℃实验室、无尘车间稳定连续运行

12. 适配基材：半导体硅片、光学玻璃、PET/TAC 塑胶、ITO 导电膜、AR 镀膜、光刻胶

日本OTSUKAEL 一体化分光干涉膜厚量测仪

核心功能特点

1. 一体式全集成光路设计，光源、分光、检测单元整合机身，无需外置光纤配件，摆放调试便捷

2. 宽量程膜厚覆盖，从纳米级超薄氧化膜至数十微米厚涂层均可稳定测量，一机覆盖多品类薄膜检测

3. 四种专业解析算法自由切换，适配单层、多层、高吸收、透明各类薄膜材质拟合计算

4. 同步输出光学常数数据，可精准解析薄膜折射率、消光系数，支撑新材料配方研发

5. 实时光谱监控 + 薄膜仿真功能，软件可预演不同膜层厚度对应的反射光谱曲线，辅助工艺调试

6. 自动旋转样品载台，多角度采集光谱，消除基材各向异性带来的测量偏差

7. USB 高速联机通讯，批量测试数据自动存储，支持报表导出、历史曲线调取复盘

8. 整机体积小巧，实验室台面、产线质检工位均可直接摆放，不占用大量洁净空间

9. 非接触式检测结构，测量过程无物理接触，杜绝薄膜划伤、样品污染风险

10. 原厂整机出厂统一光谱与厚度精度标定，检测数值满足显示、半导体行业质检验收标准

适用场景

1. 半导体晶圆实验室，硅片氧化膜、氮化膜、光刻胶薄膜厚度来料抽检与工艺管控

2. LCD/OLED 显示工厂，ITO 导电膜、偏光膜、相位差膜、AR 减反膜光学性能检测

3. 光学镀膜加工厂，玻璃镜片多层镀膜厚度、反射光谱标准化批量质检

4. 高分子材料研发实验室，PET、PC、TAC 塑胶基材硬涂层、防指纹涂层膜厚测试

5. 第三方光学薄膜检测机构，各类功能膜无损检测，出具合规光谱与膜厚检测报告

6. 新能源锂电、化合物半导体实验室，SiC、GaN 基材表面薄膜表征分析

7. 涂料、防锈涂层生产线，DLC 硬质涂层、防腐薄膜厚度在线摸底测试

8. 高校光学材料专业实验室，多层薄膜光学特性教学与科研实验配套设备