描述：德国SONOSYS 双频兆声波清洗喷嘴设备
本产品为德国 SONOSYS 索诺西斯 13791‑107 双频兆声波清洗喷嘴，属于半导体湿法工艺专用喷嘴部件，实现 3MHz 与 5MHz 双频协同工作，喷头接液部位采用 PTFE 外壳搭配石英换能板面，适配高纯药液、超纯水介质。设备将兆声波能量耦合进入流动液体，随流体喷射至基板表面，依靠高频微空化效应剥离工件表面微小颗粒、有机残留。

基础核心参数

1. 型号：13791‑107

2. 设备类型：3+5MHz 双频兆声波清洗喷嘴（PTFE 石英喷头）

3. 品牌：SONOSYS（德国索诺西斯）

4. 作业对象：半导体晶圆、掩膜版、各类基板湿法定点兆声波清洗，去除微颗粒、有机残留物

5. 工作方式：3MHz+5MHz 双频兆声波耦合入流动液体，液体喷射同时传递高频能量实现工件表面清洗

6. 输出形式：携带兆声波能量的工艺流体喷射输出，配合发生器实现功率信号交互

7. 安装形式：真空 / 工艺腔体内置固定安装，接入流体管路与高频驱动线缆

8. 工作环境：湿法工艺腔体内部，介质为超纯水、高纯药液，规避颗粒物污染喷头石英面

9. 可选配置：匹配兆声波发生器、流体接头套件、FFKM 密封件、信号线缆另行选配

10. 标配配件：喷嘴本体、操作手册；管路接头、密封件另行选配

德国SONOSYS 双频兆声波清洗喷嘴设备

核心功能特点

1. 3MHz 与 5MHz 双频复合输出，兼顾大颗粒剥离与纳米级精细清洗，清洗效果优于单频方案

2. 接液部分 PTFE 壳体 + 石英换能面，耐各类半导体高纯药液腐蚀，不会对工艺介质造成污染

3. 定点聚焦式能量输出，能量集中在狭小区域，定点清洗，对基材损伤小，适配敏感基板

4. 无浸泡槽结构，不需要将工件浸入清洗槽，适配单片式湿法清洗工艺流程

5. 喷嘴整体体积小巧，便于集成到各类半导体清洗设备腔体狭小空间

6. 可适配超纯水、多种高纯工艺药液，满足不同湿法清洗工艺条件

7. 双频可以独立调节功率，可根据工件材质、污染类型灵活调整工艺

8. 石英端面、密封易损配件可单独更换，降低整机更换带来的运维投入

适用场景

1. 半导体行业，硅片、化合物基板单片湿法清洗，剥离微小颗粒与有机残渣

2. 面板光学行业，光掩模版、光学基板定点兆声波清洗处理

3. MEMS 器件，精密微结构工件无损伤湿法清洗

4. 科研研发工位，试样基板湿法兆声清洗工艺开发

5. 自动化湿法清洗设备配套，作为腔体内置清洗执行部件

6. 原有兆声波喷嘴石英面损耗、能量衰减，现场备件替换升级