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日本Atomax 半导体晶圆精密喷涂二流体喷嘴

描述:日本Atomax 半导体晶圆精密喷涂二流体喷嘴采用外混合涡流雾化结构,专为晶圆、精密零部件精密喷涂与湿法清洗开发。可稳定生成平均5μm超细雾滴,液体流量8–15L/h,喷雾角度可调,雾场均匀。直通式流路设计抗堵塞,可选多种耐腐蚀材质,适配去离子水、光刻药液、低粘度涂层药剂。广泛用于半导体晶圆薄膜喷涂、刻蚀后清洗、精密元器件防护涂层作业,雾滴粒径一致性好,减少针孔、膜厚不均等工艺缺陷

  • 产品型号:AM45
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-09-11
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本Atomax 半导体晶圆精密喷涂二流体喷嘴日本Atomax 半导体晶圆精密喷涂二流体喷嘴

1、产品细节图

喷嘴整体为小型模块化柱状结构,本体刻有Atomax品牌与AM45型号标识,两端分别为液体接口与气体接口,前端为雾化喷射口。整体造型简洁紧凑,无多余凸起,便于直接集成在半导体喷涂设备、清洗腔体、机械臂工位上。白底实拍图展示喷嘴本体,接口螺纹清晰;工况实拍可展示喷嘴安装于机台,对晶圆表面进行雾化喷涂作业。外观洁净无毛刺,表面抛光处理,满足无尘车间的洁净要求。

2、产品性能

AM45依托外部混合二流体雾化原理,压缩空气与液体仅在喷嘴出口位置相遇,依靠高速气流剪切、涡流破碎液体,形成超细均匀雾滴,平均雾滴粒径约5μm,粒径分布窄,CV值小于5%,可实现稳定的薄涂层喷涂效果。液体流量区间8–15L/h,属于AM系列的中高流量型号,兼顾雾化精度与大面积作业效率,喷雾角度可在30°~80°之间调节,适配不同尺寸晶圆与零部件喷涂。
气液管路相互独立,能够防止液体倒灌进入气路。内部采用直通式流路,没有细小狭缝,抗堵塞能力优于传统内混式喷嘴,可处理含有微量固体颗粒的药液。工作气源压力0.2–0.6MPa,较低气压即可稳定雾化,压缩空气消耗量更低,减少产线能耗。雾滴附着均匀,不容易产生大液滴滴落,降低晶圆表面水渍、斑点不良,满足半导体湿法工艺对喷涂一致性的要求。

3、产品用材

标准本体可选黄铜或者SUS316L不锈钢,强腐蚀药液工况可升级PEEK、PTFE材质,具备良好耐化学腐蚀性能,适配各类半导体清洗药剂、光刻配套药液。喷嘴仅由两个核心组件组成,无内置O型圈与内置滤网,减少介质污染风险,同时方便拆装清洗。喷射端面经过精密抛光,表面粗糙度低,不易残留药液与颗粒物,符合无尘制程的洁净需求。材料析出低,不会对晶圆、精密部件造成金属离子污染。

4、核心参数表

参数项目
技术规格
设备型号
AM45
雾化原理
外混合涡流二流体雾化
平均雾滴粒径
≈5μm
液体流量范围
8–15 L/h
工作气源压力
0.2~0.6 MPa
喷雾角度
30°~80°可调
适用液体粘度
≤50cP
标准材质
SUS316L/黄铜,可选PEEK、PTFE
结构特点
两件式模块化,无内置O圈与滤网

5、型号说明

AM45是Atomax AM系列二流体喷嘴中的中高流量型号,同系列还有AM6、AM12、AM25,流量依次递增。相比小流量型号,AM45拥有更大液体处理量与更广喷雾覆盖范围,在维持5μm超细雾化的前提下,适配大面积、批量式喷涂清洗工况。模块化结构,支持多种材质定制选型,可根据药液腐蚀特性、洁净等级来选定本体材料,无需改动核心雾化结构,便于产线快速替换安装。

6、产品用途

主要用于半导体行业晶圆的精密喷涂与湿法清洗工艺,可用于晶圆背面涂层喷涂、刻蚀后清洗、薄膜沉积前预处理,也适用于MEMS器件、光学精密零件、PCB精密基板的三防涂层喷涂。喷嘴雾化均匀,适合薄涂层制备,同时可用于腔体、载具等半导体工装的大面积清洗。可应用于半导体封装、光电元器件制造等无尘车间,完成药剂雾化喷涂、污染物剥离等工序。

7、产品包装

独立防尘防静电包装,内含AM45喷嘴主体、密封配件、说明书、出厂检测报告。喷嘴单独防护,避免运输过程中喷射口磕碰划伤,防止粉尘附着。配套配件分类放置,到货后可直接上机安装,适用于进口元器件标准储运要求。

8、使用说明

将喷嘴固定安装于喷涂设备或者机械臂工位,分别连接液体管路与压缩空气管路,确认气液接口无泄漏。先通入压缩空气,再通入液体,缓慢调节气压与液体流量,根据工艺需求调整喷雾角度。作业过程中保持介质洁净,减少大颗粒杂质进入管路。作业结束,继续通气吹扫一段时间,清理流道内残留药液,再依次关闭液路、气路。定期拆解两件式组件,清洗喷嘴流道与喷口,防止药剂析出堆积,保障雾化效果稳定。


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