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PEC‑X日本岡谷精立工業室内压力控制器日本岡谷精立工業室内压力控制器，用于实时监测并稳定控制洁净室、设备腔室、实验空间的室内压力与压差。通过调节送排风风量，维持空间正压 / 负压稳定，防止外界灰尘、杂质侵入，保障半导体车间、制药车间、精密实验室的洁净等级，实现环境压力自动化闭环控制。

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2026-05-22

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μPIBOC‑I MODEL1200 系列日本明電舎MEIDENSHA 工业用控制器日本明電舎MEIDENSHA 工业用控制器，面向半导体设备、包装机械、精密自动化装置、小型产线开发。集成逻辑运算、运动控制、IO 信号处理、通讯对接等功能，可实现设备动作流程、时序控制、传感器联动、执行机构驱动，适配中小规模自动化设备的整体控制需求。

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2026-05-22

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Z2000 系列日本サーパス工業 SURPASS 流量控制器日本サーパス工業 SURPASS 流量控制器，，面向半导体周边设备、真空设备、热处理、表面处理等常规工业气体管控场景开发。采用成熟流量检测与阀控结构，兼顾实用性与经济性，可稳定实现多种工艺气体的流量测量与自动调节，适配中小流量区间的连续供气控制。

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2026-05-22

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LC‑3000L 系列日本 LINTEC 液体质量流量控制器日本 LINTEC 液体质量流量控制器，区别于 MC‑7000/MC‑3000L‑TC 气体型 MFC，专注于液态化学试剂、溶剂、药液的微量、高精度流量控制。采用适配液体介质的测量与阀体结构，实现液体质量流量的稳定监测与闭环调节，多用于半导体清洗、刻蚀、薄膜制程中化学药液的定量供给。

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2026-05-22

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MC‑3000L‑TC 系列日本LINTEC 高温专用质量流量控制器日本LINTEC 高温专用质量流量控制器，和 MC‑7000 高速响应型定位常温快速控制不同，本系列重点解决高温管路、预热工艺、气相沉积等高温环境下的气体流量稳定管控。整机针对高温工况做结构与材质强化，可在持续高温环境下稳定工作，适配需要气体预热、高温输送的半导体及材料加工制程。

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2026-05-22

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