描述：日本SHINKUU 空心阴极等离子锇导电镀膜仪
本设备为日本 SHINKUU HPC‑20 锇镀膜装置，采用空心阴极等离子工艺，用于扫描电镜、透射电镜样品导电膜制备。依靠低压等离子环境生成超薄锇导电层，处理过程能量温和，不易造成热敏、生物样品受热损伤。空心阴极腔体内形成均匀等离子场，无论样品高低、外形结构，都能获得厚度一致的镀膜，对于凹凸、多孔、复杂立体试样具备优秀包覆能力。

产品型号：HPC‑20
厂商性质：代理商
更新时间：2026-08-03
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本SHINKUU 空心阴极等离子锇导电镀膜仪

基础核心参数

工作原理：空心阴极等离子 CVD 方式，锇气体在等离子环境下沉积形成超薄导电 Os 薄膜，检测记录可保存归档。
型号：HPC‑20 锇镀膜装置（空心阴极等离子 CVD）
阴极腔体：内径 Φ108mm，深度 35mm
样品台直径：Φ98mm，腔体内浮动式安装
极限真空：3Pa 以下
气源需求：可接入氩气或干燥空气，针阀调节进气流量
药剂消耗：标准安瓿瓶锇试剂可完成上百次镀膜循环
控制方式：触摸屏程序全自动控制，支持手动单步调试
安全构造：内置活性炭尾气捕集装置，配套各类电气安全联锁
整机尺寸：宽 470mm× 深 373mm× 高 412mm，整机重量 25kg
供电规格：标准交流市电输入，适配国内实验室供电环境
标准配件：真空机组、锇试剂安置组件、操作手册；样品夹具、气体调压组件可选配

日本SHINKUU 空心阴极等离子锇导电镀膜仪

核心功能特点

低压等离子镀膜工艺，相比传统溅射设备，热影响低，适合生物、树脂等不耐高温样品。
空心阴极均匀等离子场，复杂三维样品侧面、凹陷区域均可形成连续导电薄膜。
全自动程序运行，预设镀膜时长、真空时序，减少人工操作带来的条件波动。
药剂消耗量低，单次镀膜仅导入微量锇气体，降低长期实验耗材成本。
自带尾气吸附系统，有效吸附残余反应气体，简化实验室通风配套条件。
超薄镀膜可控，生成纳米级别导电层，不会掩盖样品本身细微表面形貌。
制备的锇薄膜晶粒细小，非常适合高倍率 SEM 观测、EBSD、俄歇能谱分析。
多条镀膜程序可存储，切换不同类型样品时直接调取参数，无需反复调试。
台式紧凑型机身，占用实验台面空间适中，便于安置在电镜实验室配套使用。
10. 完整处理台账留存，新材料形貌观测、生物样品电镜实验、半导体试样表征对比均可调取记录溯源。

适用场景

1. 高校科研实验室：高分子、复合材料、生物样品扫描电镜前导电处理。2. 材料研究所：粉末、多孔材料、薄膜试样超薄导电层制备。3. 半导体行业：晶圆、微型元器件、MEMS 器件 SEM 观测样品制备。4. 第三方表征平台：各类试样电镜观测标准化前处理工序。5. 地质矿物领域：岩石、粉体矿物样品表面导电镀膜。6.FIB 加工实验室：试样保护层沉积、精细形貌观测样品预处理。