清洗机-津越工业设备(武汉)有限公司

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2026-06-10

日本 techvision UV-208 紫外线臭氧清洗机工作原理

2026-10-21

SAT Group UD-009 数字超声波清洗机长期运行维护规范

2026-07-28

日本 SUPER-ACE 静音型汽油高压清洗机 SEK-2008SSV 简介

2026-06-22

日本 ec‑frontier ECSTATsyn‑8000 批次式电解合成装置优势和特点

2026-08-20

日本SAMCO UV-1紫外臭氧清洗机晶圆表面处理日本SAMCO UV-1紫外臭氧清洗机晶圆表面处理该款台式紫外光臭氧清洗设备，常压干式工艺，搭配 UV 光源、臭氧生成与加热载台，用于半导体基板有机污染物去除、光刻胶灰化、表面活化改性，无需真空，适合实验室研发试样前处理。

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更新日期
2026-10-23

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代理商

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9
RM-401HT-CE日本Ricemini商用桌上全自动洗米机粮食清洗日本Ricemini商用桌上全自动洗米机粮食清洗日本 Ricemini 莱斯特 RM-401HT-CE 是带 CE 认证桌上型全自动洗米机，适合餐饮、食堂、寿司店使用。单次洗米范围 1.0～4.0kg，按 0.5kg 档位调节，4kg 满载用时约 4 分 47 秒。设备体积紧凑，放置在操作台即可作业，进水排水接入管路，一键完成洗米流程，节水低功耗。机身采用不锈钢接触结构，方便日常清洁，适配小型后厨

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更新日期
2026-10-22

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厂商性质
代理商

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14
SP-0400日本orangescience真空等离子处理器清洗日本orangescience真空等离子处理器清洗，面向半导体材料、PDMS 微流控芯片清洗改性。采用 40KHz 低温射频放电，样品处理温度≤60℃，不会造成 PDMS 形变与薄膜损伤。透明石英腔体，内置无油干式真空泵，标配氧气、氩气两路工艺气，可扩展氮气。支持 10 组工艺程序存储，实现有机污染物去除、PDMS 亲水化、PDMS 与玻璃键合。适合高校微纳实验室、半导体研发、生物微流控试制

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更新日期
2026-10-19

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代理商

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41
UV-208日本techvision半导体光学紫外线臭氧清洗机日本techvision半导体光学紫外线臭氧清洗机UV-208 是 techvision 桌面型紫外臭氧清洗机，双波长 UV 光源，照射区域 206×206mm，常压干式清洗，无需真空。可去除半导体晶圆、光学镜片表面微量有机物，同时做表面亲水化改性，提升镀膜附着力。支持单面 / 双面清洗，舱门安全联锁，定时控制。整机 28kg，适合实验室与小批量生产，选配臭氧催化分解组件。

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更新日期
2026-10-17

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厂商性质
代理商

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日本 HUG POWER BEUGA 蒸汽双流体清洗装置日本 HUG POWER BEUGA 蒸汽双流体清洗装置BEUGA 为无有机溶剂蒸汽二流体清洗设备，用于 LED 器件 Lift-Off 剥离工艺。采用纯水加热产生蒸汽，超音速喷嘴喷射混合流体，金膜回收率较高，减少有机溶剂使用，降低废液处理成本，适配 50/150mm 晶圆，配置双 SPM 工艺腔体。

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更新日期
2026-09-30

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厂商性质
代理商

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121

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