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2026-07-28

WV‑231‑S1日本本多电子honda 真空减压超声波清洗机日本本多电子honda 真空减压超声波清洗机真空减压超声波清洗机，结合真空脱气与超声振荡作用，可去除清洗液内部气泡，强化清洗效果，降低气泡对精密器件造成的损伤。整机配置压力表与数显操作面板，槽体耐腐蚀，适合半导体、微电子类精密工件清洗作业，用于生产制程、实验室工件洁净处理。

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更新日期
2026-08-26

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厂商性质
代理商

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浏览量
86
TSU‑252‑VS日本sakura 真空脉冲超声波清洗装置日本sakura 真空脉冲超声波清洗装置台式真空脉冲超声波清洗装置，采用分体式结构设计，由超声主机与清洗槽体两部分组成。设备结合真空脱气与脉冲超声技术，能够消除清洗液内部气泡影响，对盲孔、微孔、缝隙位置实现高效清洗。槽体为不锈钢材质，配备真空压力表，可直观查看腔内负压状态，适合精密小零件去除油污、碎屑、残留杂质，多用于实验室、精密加工车间试样与工件清洗作业。

01
更新日期
2026-08-26

02
厂商性质
代理商

03
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67
GAIA‑P20gst 锅炉废气脱硫脱硝洗涤器 gst 锅炉废气脱硫脱硝洗涤器本款为锅炉工况专用湿法洗涤净化设备，面向各类燃料燃烧产生的尾气开展净化处理，借助喷淋吸收反应，脱除烟气里的硫氧化物与氮氧化物。整机采用耐蚀材质制作，适配锅炉烟气较高温度与腐蚀性成分，采用模块化结构，便于现场安装与后期维护。设备搭载完整的流体循环、药剂投加、状态监测组件，可对接燃煤、燃油、燃气类锅炉系统，稳定处理燃烧尾气，助力排放指标满足管控要求。

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更新日期
2026-08-20

02
厂商性质
代理商

03
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116
SCRD6 / SCRD8日本rexxam 半导体微结构晶圆清洗设备日本rexxam 半导体微结构晶圆清洗设备本设备为固定腔式超临界二氧化碳晶圆清洗干燥装置，分为 SCRD6、SCRD8 两款，分别适配 6 英寸、8 英寸晶圆试样。利用超临界二氧化碳不存在液气界面、无表面张力的特性，完成溶剂置换、清洗与干燥整套工序，规避传统烘干带来的微结构塌陷、粘连问题。腔体支持导入异丙醇等助洗溶剂，触控面板编辑多段工艺程序，配备多重安全保护机构。

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更新日期
2026-08-20

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厂商性质
代理商

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103
13792‑005/51德国sonosys 晶圆兆声波湿法清洗喷嘴德国sonosys 晶圆兆声波湿法清洗喷嘴 13792‑005/51 属于单片晶圆湿法清洗专用兆声波石英喷头，区别槽式兆声清洗，不需要把整片基板浸泡药液，依靠流动的超纯水 / 工艺药液携带兆声能量定点作用基板表面，完成纳米颗粒、有机残渣剥离。核心超声工作面采用高纯石英材质，可直接接入半导体清洗腔内部，适配旋转单片清洗机，喷头跟随摆臂扫描，逐区域完成晶圆表面清洗。

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更新日期
2026-08-13

02
厂商性质
代理商

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浏览量
102

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