描述：日本sakigakes 小型腔体式等离子处理仪器
本产品为日本魁半导体 NMR‑Gts 小型真空等离子装置，属于腔体式真空等离子处理设备，在真空环境下生成等离子体，完成工件表面清洗、活化、改性处理。设备构建密闭真空腔体，通入工艺气体，通过放电产生等离子，对样品表面进行处理，去除有机污染物，改变基材表面状态，多用于实验室研发以及小批量试样处理。

基础核心参数

1. 型号：NMR‑Gts

2. 设备类型：小型真空等离子装置

3. 品牌：sakigakes（日本魁半导体）

4. 作业对象：各类试样表面等离子清洗、表面活化、表面改性处理

5. 工作方式：真空环境下气体放电生成等离子体进行表面处理

6. 输出形式：工件表面改性清洗，可对接外部设备联动信号

7. 安装形式：台面放置，实验室或者研发工位摆放使用

8. 工作环境：室内工位，做好接地，保证真空系统散热

9. 可选配置：样品工装夹具、工艺气体套件、联动信号线缆另行选配

10. 标配配件：等离子装置本体、操作手册；工装另行选配

日本sakigakes 小型腔体式等离子处理仪器

核心功能特点

1. 小型腔体设计，占用空间小，适配实验室研发工位部署

2. 真空等离子处理，可实现样品表面除污、活化、改性多重效果

3. 工艺参数可调，可根据不同基材调整等离子处理条件

4. 操作流程简单，便于研发人员开展多组对比试样试验

5. 适配间断式试验工况，适合小批量样品循环处理

6. 真空系统运行稳定，腔体内部工艺环境重复性好

7. 腔体拆装维护便捷，方便清理腔体内残留杂质

8. 电极、真空易损配件可单独更换，降低整机更换成本

适用场景

1. 半导体行业，芯片、基材试样表面等离子清洗活化

2. 材料研发，各类试样表面改性，提升材料表面结合性能

3. 光学零部件，样品表面有机污染物去除处理

4. 高校科研工位，科研样品等离子工艺试验制备

5. 电子元器件研发，零部件表面改良，提升粘接贴合效果

6. 原有真空等离子装置老化失效，现场备件替换升级