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日本aiden艾登旋转涂布机实验室薄膜制备

描述:日本aiden艾登旋转涂布机实验室薄膜制备介
本款产自日本 aiden 艾登 SC4002 简易型旋涂机,常被用于聚合物、有机化合物薄膜制备,区别于真空镀膜工艺,适合受热易分解材料制膜。转速区间 50~4000rpm,支持两段程序设置,加减速 0~15s 可调,带开盖互锁安全结构,腔体内部配置可拆不锈钢内盘,便于清洁残留药液。台式小巧机身,操作门槛低,搭配真空吸附基板,在高校、材料实验室完成光刻胶

  • 产品型号:SC4002
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-10-20
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本aiden艾登旋转涂布机实验室薄膜制备日本aiden艾登旋转涂布机实验室薄膜制备

介本款产自日本 aiden 艾登 SC4002 简易型旋涂机,常被用于聚合物、有机化合物薄膜制备,区别于真空镀膜工艺,适合受热易分解材料制膜。转速区间 50~4000rpm,支持两段程序设置,加减速 0~15s 可调,带开盖互锁安全结构,腔体内部配置可拆不锈钢内盘,便于清洁残留药液。台式小巧机身,操作门槛低,搭配真空吸附基板,在高校、材料实验室完成光刻胶、高分子溶液旋涂制膜,是研发阶段常用薄膜成型设备。

本款日本 aiden 艾登 SC4002 旋转涂布机,依靠离心旋涂原理成膜,很多有机高分子、功能化合物在真空蒸镀环境容易热分解,这款设备可以避开高温真空环境,在常压条件下完成溶液涂布成膜,适配各类溶液型涂膜配方。转速采用数字设定,调节范围 50 至 4000rpm,四段数码管实时显示转速数值,加减速时长 0~15 秒,调节步长 0.1 秒,两段式时序程序,可设置不同转速、不同时长的分段工艺,满足预铺、高速甩膜的标准旋涂流程。旋转腔体圆筒内径 133.8mm,腔体高度 40mm,内部可拆卸不锈钢承接内皿,滴下多余溶液会收集在内盘,拆卸清洗方便,减少不同样品交叉污染。设备设置开盖互锁机制,保护盖没有闭合时电机不会启动,规避高速旋转带来的安全风险。整机外壳为不锈钢板材,耐有机溶剂轻微腐蚀,亚克力透明上盖,方便实验人员直观观察旋涂过程。整机自重约 7kg,台式紧凑结构,放置在普通实验台即可使用。供电规格 AC100V,使用时需要搭配变压器接入国内市电。可选真空吸附吸盘组件,搭配外置真空泵,固定玻璃片、硅片、金属基板,防止高速旋转时基板移位。设备单次运行时长可在面板设置,计时范围 0~60 分钟,长时间连续运行不在设备保障范围内,适合间歇式研发试样制备。工作环境 5~35℃,湿度 20~80% RH,禁止在大量易燃易爆溶剂蒸汽持续聚集的密闭环境长时间运行。

表格

项目参数
型号SC4002
设备类型简易型旋转涂布机(旋涂机)
转速范围50~4000rpm,数字设定,4 位数显示
加减速时间0~15s,0.1s 步进
程序模式两段时序程序,转速、时长独立设置
旋转腔体内径 133.8mm,高度 40mm,可拆卸不锈钢内皿
安全机构开盖互锁,开盖状态禁止旋转启动
供电AC100V,50/60Hz,需配套变压器
整机重量约 7kg
工作环境5~35℃,20~80% RH,无凝露
选配组件真空吸盘、外置真空泵、多规格基板夹具
适用工艺光刻胶、高分子、有机功能材料溶液旋涂成膜

设备用途用于材料研发实验室制备有机薄膜,适合聚合物、共轭化合物、光刻胶、导电高分子溶液涂膜,在玻璃基板、硅片、金属片表面形成均匀薄层。适合高校材料、光电、化学实验室,科研院所新材料试样开发,用来对比不同转速、浓度条件下薄膜外观、厚度差异,弥补真空镀膜机无法加工热敏材料的短板。设备采用防震木箱包装,旋涂主机、透明上盖、内承接盘、电源线、操作手册独立防护。开箱核对腔体、透明盖板无裂纹,转动部位无卡滞;使用前放置稳固台面,接好变压器,安装基板吸盘或者固定夹具,滴加溶液,闭合盖板,设置两段转速、时间参数后启动。旋涂结束等待转盘全停稳再开盖,及时取出样品,拆下内盘清洗晾干,避免溶剂干涸残留。不锈钢内盘、密封圈、真空吸盘属于易损耗配件,有机溶剂长期浸泡会加速老化,不在主机质保范围内,定期检查更换。我司可提供到货后的安装指导,讲解两段程序编辑、基板吸附、腔体清洁维护要点。主机按照原厂标准提供质保,质保期内非人为损坏故障,提供远程技术排查;如需现场调试或者整套真空泵配套方案,可另行沟通安排。使用中遇到转速不稳、互锁报错、腔体渗漏等问题,可随时联系技术人员,同时支持真空吸盘、配套真空泵等备件采购,设备定期运行校验维护。


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