描述：日本 shinkuu HPC-20 锇涂层机真空镀膜设备这款全自动锇镀膜设备，采用空心阴极等离子成膜方式，用于电镜样品前处理。成膜绕行性好，薄膜均匀致密，对样品扰动低，适配多种精密分析。整机触控操作，流程自动运行，自带气体吸附处理结构，可在常规实验室环境安置。适合各类科研院所与检测实验室做样品导电处理，华中地区支持现场安装与操作指导。

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厂商性质：代理商
更新时间：2026-11-09
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本 shinkuu HPC-20 锇涂层机真空镀膜设备日本 shinkuu HPC-20 锇涂层机真空镀膜设备

这款全自动锇镀膜设备，采用空心阴极等离子成膜方式，用于电镜样品前处理。成膜绕行性好，薄膜均匀致密，对样品扰动低，适配多种精密分析。整机触控操作，流程自动运行，自带气体吸附处理结构，可在常规实验室环境安置。适合各类科研院所与检测实验室做样品导电处理，华中地区支持现场安装与操作指导。

产品介绍

产品细节图

整机为台式紧凑箱体，正面搭载触控操作屏，可调取程序、查看运行状态；上方为可开启的样品腔舱门，内部安置空心阴极样品台，样品放置之后闭合舱门即可启动流程。设备侧边设置真空管路、供气接口与排气通路，配套真空泵独立放置，管路接头带有锁紧结构。机身面板排布运行指示灯，运行阶段、异常告警都可以直观识别；耗材安瓿装填位置带有防护结构，更换耗材时降低外泄风险，未反应气体经由内置活性炭捕集组件处理后排出。整机体积小巧，放置在实验室普通操作台即可，不需要额外搭建大型通风柜配套。

产品性能设备依托空心阴极等离子 CVD 原理完成锇薄膜制备，依靠低压放电激发等离子体，在样品表面生成导电薄膜。等离子场在腔体内部分布均匀，无论样品外形复杂或是带有深沟孔洞，薄膜都拥有良好的绕行覆盖能力。成膜过程放电能量柔和，可以降低对软质、易损伤样品的影响，适合高倍率电镜观测配套。整套流程由可编程控制器配合触控屏管控，抽真空、气体注入、成膜、排气依次自动执行，操作人员选定程序之后无需持续值守。支持超薄导电膜制备，也可切换程序制备较厚保护层，满足不同分析项目需求；耗材消耗量可控，单支耗材可以完成多次样品处理，运行成本稳定。设备集成安全联锁，舱门未闭合时无法启动镀膜流程，出现真空异常、供气异常时自动停机告警。

用材主机箱体采用喷塑钢板，结构稳固，长期运行不易形变；样品腔、阴极组件选用不锈钢材质，耐气体腐蚀，便于清洁；触控面板为耐磨防护面板，反复触碰不易刮花；管路接头为不锈钢卡套接头，气密性稳定；内置吸附组件采用专用活性炭填料，对残余气体进行捕获；样品台为绝缘耐高温材质，在等离子环境下保持稳定；配套真空泵壳体为金属结构，油封选用适配专用油品，维持稳定抽气能力。

项目	规格
型号	HPC-20
成膜方式	空心阴极等离子 CVD，锇镀膜
控制方式	触控屏 + 可编程控制器，全自动流程
到达真空	3Pa 以下
气源	氩气，针阀调节进气
耗材规格	适配标准锇安瓿
本体尺寸	宽 470 mm × 深 373 mm × 高 412 mm
本体重量	25 kg
配套	旋转泵，活性炭尾气捕集
成膜特点	低损伤，膜层均匀，绕行性佳

型号HPC-20 是该系列台式标准机型，面向常规科研样品；同系列还有 HPC-220，支持大尺寸晶圆样品。选型时需要确认日常样品尺寸、是否需要厚膜程序、配套真空泵需求以及耗材配套计划，如果经常处理大面积样品，可升级至大规格机型。设备内置程序持续更新，可以新增厚膜控制等功能，后期可升级固件。

用途扫描电镜、透射电镜样品导电前处理；EBSD、俄歇电子能谱、X 射线分析样品镀膜；FIB 加工保护层制备；高分子、生物样品、多孔复杂形貌样品导电化处理；高校、科研院所、第三方检测实验室电镜平台配套。

包装采用出口防震木箱，主机、真空泵分开固定，腔体内部填充缓冲材料，管路接口加装防尘堵头；触控屏贴防护膜，安瓿配件、管路、工具、说明书、出厂检测报告、校准资料单独分格放置，避免运输磕碰造成密封面损伤。

使用说明安放位置选用平稳操作台，预留通风与检修空间，按照标识连接真空泵、供气管路，确认全部接头密封完好。开机之后先执行设备自检，自检无异常再打开舱门放置样品，摆放样品时避免触碰腔体内部电极。闭合舱门，在触控屏选定对应镀膜程序，确认耗材余量充足之后启动运行。设备自动完成抽真空、气体导入、成膜、排气，全部流程结束之后等待腔体内恢复常压再开启舱门。运行期间留意告警提示，活性炭吸附组件按照使用频次定期更换；长期停用前，把腔体内部清理干净，维持内部干燥。更换耗材依照配套操作指引，做好防护。

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