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Gravite日本spacebio‑lab 微重力三维细胞培养系统
日本spacebio‑lab 微重力三维细胞培养系统
Gravite 为 spacebio‑lab 三维回转式微重力细胞培养系统，采用双轴受控旋转，地面模拟太空微重力环境，同时支持超重力条件模拟。依靠持续改变重力矢量，时间平均达到 10⁻³G 微重力水平，流体剪切应力低，细胞不会快速沉降，可实现无支架三维自组装，形成细胞球体、类器官组织。
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更新日期
2026-08-17
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厂商性质
代理商
- 03
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91
MR‑5日本amano 免滤芯机械式油雾回收处理装置
日本amano 免滤芯机械式油雾回收处理装置
MR‑5 为 amano 天野无过滤器离心式集雾除雾设备，依靠旋风分离 + 捕集盘机械结构处理机床产生的水溶性切削油雾，不需要更换过滤滤芯，减少耗材支出。设备可预先分离切削碎屑与粉尘，降低内部堵塞风险，采用阳压自动排油结构，无需液封管路，油液直接向外排出。支持多档位风量调节。
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更新日期
2026-08-17
- 02
厂商性质
代理商
- 03
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72
G1000日本hisol 等离子刻蚀清洗处理设备
日本hisol 等离子刻蚀清洗处理设备
该低压等离子处理设备，面向半导体相关制程开发，依靠等离子体化学刻蚀作用，完成试样表层有机物质的去除作业。可完成光刻胶剥离以及各类工艺残留有机残渣的剥离清理，提供多种等离子处理模式，适配不同强度的处理需求。腔体内部处理均匀，可批量放置试样，整机搭载触控操作界面，能够保存多套工艺配方，方便不同样品快速切换工艺，可替代部分湿法化学处理工序。
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更新日期
2026-08-17
- 02
厂商性质
代理商
- 03
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78
BEM‑310日本技研nasgiken 硅晶圆整体腐蚀处理装置
日本技研nasgiken 硅晶圆整体腐蚀处理装置
批量晶圆整体蚀刻系统，采用气相蚀刻工艺完成整片晶圆的表面处理，处理过程不会在工件表面形成液滴，可规避污染物在晶圆表面发生转移扩散。整机为洁净室自立式设备，依靠内置控制系统完成整套蚀刻流程，操作逻辑简洁，除整片整体蚀刻之外，还可配合映射采集实现局部区域的评估分析，多用于半导体行业硅基材料的污染物回收与试样前处理工作。
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更新日期
2026-08-13
- 02
厂商性质
代理商
- 03
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59
AQF‑2100V日本n‑analytech 液体样品燃烧前处理装置
日本n‑analytech 液体样品燃烧前处理装置
该款立式自动样品燃烧前处理设备，作为燃烧离子色谱 C‑IC 系统核心单元，主要面向液体、气态有机样品，样品被送入高温石英燃烧管，在氧气加湿载气氛围完成燃烧水解，样品内部氟、氯、溴、碘、硫转化为无机离子，由吸收单元捕获富集，输出至离子色谱完成定量检测。设备采用双段独立控温炉膛，低空白气路设计，可直接处理油品、有机溶剂、含氟试剂等易挥发液体。
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更新日期
2026-08-11
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厂商性质
代理商
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18771980172
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