描述：日本JTEKT半导体立式炉试产热处理炉
VF-5700B-F2 是一款紧凑型小批量立式炉，专为研发、试产和中小批量生产场景设计，支持 300mm 晶圆的氧化、扩散、退火及 LPCVD 等热处理工艺。

日本JTEKT半导体立式炉试产热处理炉

产品概述

VF-5700B-F2 是一款紧凑型小批量立式炉，专为研发、试产和中小批量生产场景设计，支持 300mm 晶圆的氧化、扩散、退火及 LPCVD 等热处理工艺。

核心特点

小批量灵活处理：单炉次可处理 25~50 片晶圆，适配研发和试产的多工艺、小批量需求。

紧凑易部署：整机高度低于 3000mm，无需复杂改造即可进入洁净室，部署门槛低。

高功率快速升温：搭载 JTEKT 自研 LGO 加热器，升温速度快，缩短工艺节拍，提升试产效率。

兼容特殊工艺：支持 IGBT、聚酰亚胺固化、薄晶圆 / 厚晶圆背面电极退火等特殊制程，适配多元化研发需求。

人机友好操作：配备高性能控制系统，操作界面直观，工艺编程与调试便捷。

典型应用场景

半导体 / 功率器件的工艺研发与试产线

高校、科研院所的材料热处理实验

中小批量的特种器件（如 IGBT、MEMS）生产

日本JTEKT半导体立式炉试产热处理炉VF-5900B 立式炉（大批量 / 量产型）

产品概述

VF-5900B 是 JTEKT 的旗舰大批量立式炉，专为 300mm 晶圆量产线设计，是高产能、高稳定性的热处理核心设备。

核心特点

大批量高效处理：单炉次最高可处理 100 片晶圆，FOUP 储料器最多可支持 16 个，适配大规模量产需求。

高产能短节拍：大容量储料器 + 高速晶圆传输系统，大幅缩短生产节拍，提升产线整体产能。

宽温域精准控温：自研 LGO 加热器实现从低温到中高温的精准控温，保证工艺一致性和晶圆良率。

自动化适配量产：支持自动化产线集成，可无缝接入 300mm 晶圆厂的自动化物料系统，实现无人值守运行。

多工艺兼容：覆盖氧化、扩散、LPCVD、激活退火等全流程热处理工艺，满足量产线的多元化制程需求。

典型应用场景

12 英寸晶圆厂的大规模氧化、扩散、CVD 量产线

功率器件、存储芯片、逻辑芯片的热处理制程

对产能和稳定性要求高的成熟工艺大规模生产