描述：日本sanyu-electron 桌面型离子溅射镀膜仪
SC-701MkII 是三友电子推出系列内体积最小的桌面直流磁控溅射设备，专为扫描电镜非导电样品消除充电效应开发，也可用于微电子器件电极薄膜、光学反射薄层制备。
整机轻量化紧凑型设计，直接搭载 20L/min 旋片真空泵，无需外置大型真空机组；标配间歇溅射模式，降低离子轰击与热损伤，适配塑料、生物、高分子、陶瓷等热敏易碎样品。

核心溅射原理

整机硬件结构

1. 主机控制箱体米白色立式钣金机身，正面圆形前开门真空腔体窗口；面板集成真空调节旋钮、高压开关、溅射计时、运行指示灯、急停红色按键；ADVANCE 额外外接数显真空控制器，实时读取腔体内真空度；机身印有 SANYU ELECTRON、QUICK COATER SC-701MkII 标识。

2. 八大核心功能优势

1. 不锈钢真空腔体内径 φ90mm、深度 90mm SUS 不锈钢密封腔，前开门快开式设计，取放样品快速；内部搭载 φ50mm 圆形样品台，靶材 - 样品间距可调 20~35mm；腔体耐腐蚀、无杂质析出，保证镀膜纯度。
2. DC 磁控阴极靶座2 英寸平板磁控阴极，标配 φ49mm 金靶；ADVANCE 兼容 Au/Pt/Pd/Au-Pd/Pt-Pd/W/Ni/Ti/Al/Cr/Mo 全系列金属靶材，可制备高分辨观测、电极、光学各类薄膜。
3. 直连式旋片真空泵20L/min 抽速小型真空泵，机身底部直连主机，自带自动泄压阀；抽真空速度快，3 分钟可达工作真空，噪音低、占地小，整机成套一体，无需额外管路布置。
4. 电控时序系统溅射计时 0~15 分钟可调，连续模式最长 30 分钟；高压最高 1.2kV，输出电流 0~9.9mA 连续可调；过流、短路自动断电保护，长时间稳定运行无漂移。
   日本sanyu-electron 桌面型离子溅射镀膜仪

3. 适配样品与行业场景

1. 系列最小紧凑型机身，桌面任意摆放

   主机体积小巧，ECO 仅 160×255×286mm，整机 10kg，通风橱、实验台、狭小实验室均可放置，无需专用机房。

2. 间歇溅射标配，保护热敏易碎样品

   间断镀膜抑制热积累，生物试样、高分子、超薄塑料不会变形烧损，适配低损伤高分辨 SEM 观测。

3. 靶材间距自由可调，适配各类试样

   通过样品垫块快速调整靶材 - 样品距离，大块块状、微小粉末、切片样品均可均匀镀膜。

4. 双版本可选，满足不同预算与实验需求

   ECO 基础款仅金靶简易喷镀，性价比高；ADVANCE 带氩气进气 + 真空计，十余种靶材通用，兼顾研发多配方薄膜实验。

5. 20L/min 直连真空泵，抽气效率高

   一体式泵组，省去外接真空管路，抽真空速度快，批量制样无需长时间等待。

6. 皮拉尼真空计（ADVANCE），成膜条件可复现

   精准显示腔体真空数值，固定真空、电流、时间参数，每次镀层厚度一致，实验数据可重复，适合论文、工艺研发。

7. 一机两用：SEM 制样 + 电极薄膜制备

   除电镜导电镀膜，还可沉积金属电极、反射光学薄膜，微电子、光电实验室通用。

8. 操作极简，新手快速上手

   开门放样品→关门抽真空→设定时间电流→一键启动，结束自动泄压，培训 5 分钟即可独立操作。

4. 可处理试样

5. 塑料、橡胶、生物组织切片、粉末、陶瓷、玻璃、半导体晶圆、绝缘涂层、矿物岩石、高分子薄膜。

6. 适用行业场景

1. 高校材料、生物、地质学院：SEM 扫描电镜微观形貌观测前处理；

2. 第三方检测机构：断口、粉末、镀层微观表征制样；

3. 微电子研发：器件金属电极薄层沉积；

4. 光学实验室：超薄反射、透光金属薄膜制备；

5. 新材料企业：陶瓷、复合材料、纳米粉体形貌分析。