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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本ADVANCE RIKO 空冷台式红外快速退火炉
大气氛围:常规氧化、烘干、薄膜耐热测试;
惰性气体(N₂/Ar):隔绝氧气,金属、热电材料退火;
可控气流气氛:持续通入保护气,还原、烧结实验;
真空环境:搭配外置真空泵实现低真空退火,适配半导体晶圆、易氧化样品。
机身标配数字气体流量计,精准调控保护气通入流量,气路采用标准 1/4 英寸世伟洛克快插接头,拆装管路便捷。
半导体行业:硅片、化合物晶圆快速退火、基板光 CVD 预热;
薄膜涂层领域:光学膜、金属镀层耐高温老化、耐热性能评估;
新材料研发:热电材料、陶瓷、磁性材料、催化剂烧结;
金属工艺:小型金属片退火、氢气还原去除氧化层;
高分子实验室:树脂、有机薄膜低温烘干、热稳定性测试;
可靠性测试:零部件冷热循环、高温老化耐久实验。
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