日本 RION 理音 KS-41B 多通道液体颗粒计数器工作原理

更新时间：2026-10-27

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日本 RION 理音 KS-41B 采用侧向激光散射原理，检测流动液体内部悬浮微颗粒，专门针对半导体高纯药液、光刻胶、超纯水开发，是湿制程良率管控的核心监测设备。激光器发射 532nm 激光，照射到流通池内部液流，当液体中的微小颗粒穿过激光束时，颗粒会向四周散射光线，侧向布置的光电二极管接收散射光信号。

日本 RION 理音 KS-41B 多通道液体颗粒计数器工作原理

单个颗粒对应一个脉冲信号，脉冲强弱和颗粒粒径存在对应关系，后端 KE-40B1 控制器采集脉冲，按幅值分到不同粒径通道，统计各个粒径区间的颗粒数量，换算成每毫升颗粒浓度。选用侧向散射光路是这款机型的关键设计。光刻胶这类有机药液会产生微弱自发荧光，如果采用前向散射，荧光背景噪声容易掩盖 0.1μm 级别微小颗粒信号；侧向接收方案能够有效压低背景干扰，保证在光刻胶、SOG 涂布液里稳定检出亚微米颗粒，而在超纯水这类无荧光透明液体条件下，光学信噪比进一步提升，可以下探至 0.07μm 检测。接触液体的流通腔体、管路全部采用合成石英和 PFA，这两种材料离子析出极低，不会向高纯半导体药液引入额外污染，符合湿电子化学品的洁净要求。但设备本身不具备流量调节能力，流速依靠外部泵、限流阀控制，流量波动会直接影响计数精度，在线集成时稳压稳流是配套重点。系统架构上，KS-41B 仅为传感单元，所有参数设置、数据存储、报警输出都由 KE-40B1 控制器完成。控制器可以自由划分粒径档位，从出厂 5 通道扩展到 10 通道，方便工厂按管控标准分级统计；同时支持定时采样、循环监测、上限报警，数据可上传上位机，接入 Fab 厂 MES 或者洁净流体监控平台。如需多管路同步监测，搭配 KZ-51 多点单元，组网接入多支传感器，集中查看各供液支路洁净度。设备内置独立漏液传感器，一旦流通池、接头出现渗漏，立刻触发继电器报警输出，避免光刻胶、腐蚀性高纯药液扩散污染洁净车间。它同时支持两种检测模式：在线式串联在循环供液管路，24 小时连续监控，实时捕捉颗粒突增异常，提前预判过滤器破损、管路污染；离线模式搭配专用注射器取样器，对来料桶装光刻胶、化学品做批次抽检。需要区分，液体颗粒计数器只统计固体悬浮颗粒，气泡会被识别成颗粒，产生虚高数据，所以管路排气、脱气是半导体工况里很重要的配套工序。另外高浓度颗粒会出现重合损失，超过 9600 个 /mL 时，两个颗粒同时经过光斑，设备会误判为单个大颗粒，因此高污染样品需要稀释后再检测。总的来说，KS-41B 依靠低噪声侧向散射光学结构、低析出接液材质，兼顾超纯水与光刻胶等特殊药液，为半导体产线提供稳定的亚微米颗粒计数方案，助力管控药液洁净度、降低晶圆颗粒缺陷。

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