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产品分类 / PRODUCT

描述：日本MIKASA 洁净室旋转涂布机
MS-B100 是 MIKASA 专为实验室研发的桌面式精密旋涂设备，适配中小型圆形晶圆与方形光学基板的各类液态涂层制备，是材料、半导体研发场景常用基础制膜设备。设备采用无刷伺服动力结构，运行过程不会产生粉尘污染，可直接放置于洁净室内使用，长时间作业状态稳定。设备支持整套涂布工艺分段储存调取，能够重复复刻相同成膜流程，保证不同样品涂层效果统一。

Name: 日本MIKASA 洁净室旋转涂布机MS-B100
Brand: 其他品牌
Price: 4200 CNY
Availability: InStock

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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本MIKASA 洁净室旋转涂布机

设备搭载无刷伺服动力组件，运转过程不会产生碳粉碎屑，不会对洁净室环境、实验基板造成污染；设备运转发热量低，长时间连续工作不会因升温干扰涂层成型效果，运转过程平稳无明显抖动，保障涂层均匀度。

整机支持多套独立工艺方案储存，每套方案可拆分多段转速、时长流程自由编辑，可提前保存各类标准涂布工艺，后续实验一键调取使用。配套程序锁定功能，避免非工作人员随意改动参数，保障实验数据与成膜效果稳定统一。同时支持方形基板定点停转，方便人工取放样品。

可同时适配常规圆形晶圆与方形光学板材，内部腔体搭配透明密封上盖，旋涂全过程可直观观察液体铺展、成膜状态。采用负压真空吸附方式固定基板，薄脆玻璃、硅片均可牢固固定，吸附力度可灵活调节，防止轻薄基材碎裂。

设置舱门与真空双重安全联锁机制，腔体上盖未闭合时设备无法启动；基板吸附负压不足设备自动停机，避免高速旋转时基材甩出造成样品报废或安全隐患，新手操作也不易出现失误。

整机为小型台式一体化结构，无需预留大型安装空间，普通实验台面均可放置，单人即可完成搬运移位。支持通用宽电压供电，无需额外配备稳压设备，底部减震脚垫可抑制机身运转位移，摆放稳定。

机身外壳与腔体内部采用耐溶剂防腐材质，光刻胶、有机溶液挥发残留可直接擦拭清理，不易被化学试剂腐蚀老化；操作面板耐酒精、溶剂擦拭，长期频繁清洁不易损坏，维护简单省力。

半导体研发场景用于硅片光刻胶均匀涂布；光学实验室用于玻璃、滤光片光学薄膜制备；高校材料实验室开展高分子、纳米涂层相关实验；同时可用于 MEMS 传感器、各类功能基材的液态涂层研发打样。

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